乐光的摸摸头
证券之星消息,根据企查查数据显示韦尔股份(603501)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种MOSFET”,专利申请号为CN202322531169.7,授权日为2024年5月24日。
专利摘要本申请实施例提供了一种MOSFET,包括多个间隔设置的沟槽,所述沟槽中设置有栅极接触孔,多个所述沟槽之间区域设置有第一注入区,在所述第一注入区中设置有第二注入区,所述第一注入区的掺杂类型与第二注入的掺杂类型不同。本申请的源极接触孔在源包尺寸发展越来越小的前提下,放弃传统刻蚀孔工艺,采用自对准接触工艺,通过欧姆接触来替代原先刻蚀孔工艺,在有源区内做出等比例交替式注入区,形成带通回路,可以减少工艺复杂度,形成导通阻抗更小的器件。
今年以来韦尔股份新获得专利授权10个,较去年同期增加了42.86%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了22.34亿元,同比减10.48%。
数据来源企查查
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韦尔股份获得实用新型专利授权“一种MOSFET”
证券之星消息,根据企查查数据显示韦尔股份(603501)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种MOSFET”,专利申请号为CN202322531169.7,授权日为2024年5月24日。
专利摘要本申请实施例提供了一种MOSFET,包括多个间隔设置的沟槽,所述沟槽中设置有栅极接触孔,多个所述沟槽之间区域设置有第一注入区,在所述第一注入区中设置有第二注入区,所述第一注入区的掺杂类型与第二注入的掺杂类型不同。本申请的源极接触孔在源包尺寸发展越来越小的前提下,放弃传统刻蚀孔工艺,采用自对准接触工艺,通过欧姆接触来替代原先刻蚀孔工艺,在有源区内做出等比例交替式注入区,形成带通回路,可以减少工艺复杂度,形成导通阻抗更小的器件。
今年以来韦尔股份新获得专利授权10个,较去年同期增加了42.86%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了22.34亿元,同比减10.48%。
数据来源企查查
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