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镀膜设备主要涉及PVD、PRD、ALD三种,PVD

  • 作者:文森特_颜高
  • 2023-02-19 19:01:21
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镀膜设备主要涉及 PVD、PRD、ALD 三种,PVD 技术又分为真空蒸镀法、溅射法和离子镀法。背电极 主要使用蒸镀 PVD,目前已经比较成熟,还可使用 PRD 等离子反应设备制作。电子传输层主流使用 RPD 设备,或先用 RPD 或 ALD 设备制作阻隔层,再用溅射 PVD 做传输层。空穴传输层主流使用溅射 PVD,也可使用蒸镀 PVD;玻璃基板衬底使用溅射 PVD 形成导电层,技术较为成熟。生产百 MW 级 钙钛矿需要镀膜设备 3 台,其中包括 2 台 PVD,单价 1000 万/台;1 台 PRD,单价 2000 万/台。 

相应的设备企业有捷佳伟创、迈为股份、京山轻机、众能光电、晟成光伏等。其中捷佳伟创于 2022 年 7 月量产钙钛矿太阳能电池生产关键量产设备 RPD,并顺利出货了 GW 级 HJT 电池产线设备。晟成光 伏于 2021 年 5 月与业内钙钛矿电池领先企业开展开发战略合作,目前公司研发的钙钛矿电池团簇型多 腔式蒸镀设备现已量产,并成功应用于多个客户端


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