拓荆科技国内半导体沉积设备龙头

公司成立于2010年，主要是做化学薄膜沉积设备，也是02专项的承接单位之一，公司的产品主要有PECVD、ALD和SACVD等，22年公司92%的收入来源于PECVD，SACVD和ALD分别贡献4%和2%的收入，公司产品可以用于逻辑芯片、存储芯片和先进封装。目前公司的产品已经可以用在14nm制程，10nm的产品在研发过程中。

公司的股权相对比较分散，没有实际控制人，第一大股东大基金持有19.9%，其他国资股东包括中科仪、国有投资基金沈阳风投、沈阳创投等，国有股东合计持有公司33%的股权。中微公司投了公司8.4%股权，原先中微公司打算完全收购，但当时中微公司也比较困难。

公司的前董事长姜谦和现任董事会吕光泉曾经在美国诺发共事，核心高管大部分来源于美国诺发，总经理田晓明在拉姆研究和尼康工作。员工持股平台包括共青城和沈阳盛旺等11个机构，持股15%左右，均为姜谦合伙人。中微公司的尹志尧在公司担任董事，姜谦和吕光泉都是美国国籍。

从需求看，在晶圆制造设备中，刻蚀、沉积、光刻和其他设备的占比分别是30%、25%、23%和22%。2020年全球沉积设备的市场空间为172亿美元，其中CVD、PVD和ALD的占比分别是66%、23%和11%。 从格局看，全球CVD的主要玩家有应用材料30%、拉姆研究21%和东京电子19%，全球ALD设备的主要玩家是东京电子31%、荷兰ASM（先域）29%。

在PECVD方面，PECVD贡献了公司90%的收入，公司的产品是唯一在国内实现产业化应用的，覆盖了28nm及以上制程。19-20年，国内PECVD的招标格局是应用材料46.63%、拉姆研究34.36%、拓荆科技16.56%，此外北方华创、上海陛通和嘉兴科民也有一些PECVD的产品。

在ALD方面，公司的PE-ALD实现了产业化应用，覆盖了逻辑芯片的55-14nmSADP、STI工艺及存储领域。用于28nm的Thermal-ALD正在进行优化设计和验证测试。在ALD领域国内的玩家主要是拓荆、北方华创、微导纳米和嘉兴科民。 在SACVD方面，公司的设备覆盖了12英寸40nm/28nm及8寸90nm以上的逻辑工艺，竞争对手只有应用材料，上海陛通的设备在研发中。

在客户方面，公司的客户都是国内的企业，主要有中芯国际、华虹和长江存储等，公司主要做逻辑芯片比较多，中芯国际对公司的收入贡献比较大。中芯国际与公司合作较早，2013年公司在中芯国际的首台设备验证通过，此后获得中芯国际2020年度最佳合作厂商称号、“国产设备量产综合评分第一名”。

公司的估值比较难以理解，公司在22/23年的PE分别是160/96倍，中微公司22/23年的PE分别是45、35倍，PE估值高估计是因为公司的利润增长比中微公司快，但公司这种速度的高增长会在一定的阶段面临均值回落，未来某个阶段存在杀估值的风险。从市值看，公司目前的市值是285亿元，中微公司是510亿元，而中微公司账面上还有100亿左右的纯现金。

中微公司的市值大的时候，这100亿的现金对市值的支撑作用不大，一旦市值下跌，再把这100亿的现金扣掉，中微的市值就只有400亿左右。中微公司做的刻蚀设备市场就比拓荆的沉积市场大，中微目前在刻蚀领域的市场地位比拓荆在沉积的高很多，中微还可以做沉积设备中的MOCVD和LPCVD设备，而市场给中微主业的定价仅仅比拓荆多了100亿左右。