拓荆科技与光刻机并驾齐驱！唯一产业化半导体薄膜沉积设备商！芯片设备“五虎之一”！国产替代空间巨大！

拓荆科技公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD、SACVD 设备厂商！公司产品已成功应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、厦门联芯、燕东微电子等行业领先集成电路制造企业产线，产品技术参数已达到国际同类设备水平！公司与北方华创、中微半导体、上海微电子、中电科电子装备并列芯片设备五虎之一！国产替代空间巨大！

拓荆科技（688072）主要从事高端半导体专用设备的研发生产。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线，打破国际厂商对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。公司在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。公司的产品已适配国内最先进的 28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯片和 64/128 层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线。其中，PECVD 设备已全面覆盖逻辑电路、DRAM 存储、FLASH 闪存集成电路制造各技术节点产线多种通用介质材料薄膜沉积工序，并研发了 LokⅠ、LokⅡ、ACHM、ADCⅠ等先进介质材料工艺，拓宽公司 PECVD 产品在晶圆制造产线薄膜沉积工序的应用。

半导体产业的发展衍生出巨大的半导体设备市场，主要包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入机、测试机、分选机、探针台等设备，属于半导体行业产业链的技术先导者。半导体制造国产化势必带动设备国产化，国产设备进口替代趋势明显，替代空间巨大。新建晶圆厂设备投资中，晶圆制造相关设备投资额占比约为总体设备投资的 80%，薄膜沉积设备作为晶圆制造的三大主设备之一，其投资规模占晶圆制造设备总投资的 25%。2020 年国内薄膜沉积设备市场规模约为 45.22 亿美元。PECVD 和 ALD 分别占薄膜沉积设备市场比例为 33%和 11%，2020 年国内市场 PECVD 市场规模约为 14.92 亿美元，ALD 市场规模约为 4.97 亿美元。随着半导体行业整体景气度的提升，全球半导体设备市场呈现快速增长态势，拉动市场对薄膜沉积设备需求的增加。预计全球半导体薄膜沉积设备市场规模在 2025 年将从 2020 年的 172 亿美元扩大至 340 亿美元，保持年复合 13.3%的增长速度。

公司2021年实现主营收入7.58亿元，同比增长73.99%；实现净利润6848.65万元，同比增长696.10%。公司2022 年 1-3月实现营业收1.08亿元，同比增长86.21 %；实现-1187.81万元，同比增长-15.02%。拓荆科技目前主要竞争对手美国应用材料（AMAT）、ASMI、美国泛林半导体（Lam）、日本东京电子（TEL）、荷兰先晶半导体（ASMI）。