逍遥齐物
逻辑国产替代空间巨大
近期随着光刻机大集团新闻持续发酵,光刻机、光刻胶、光掩膜版产业链备受关注。光刻掩膜板(Photomask),又称光罩、光掩膜等,是芯片制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权息的载体,是光刻机使用过程中,芯片精度和质量的决定因素之一。
光掩膜版市值弹性巨大。中国半导体光掩膜版市场需求约100亿元,但路维和清溢合计仅2亿元收入,掩膜版国产替代空间巨大,国内130nm以下制程半导体掩膜版基本依赖于进口。按远期国产化率70%和20%净利率30x测算,中国半导体光罩企业合计市值有望约500亿元,叠加面板等其它领域需求,中国光罩企业合计市值有望达到600-700亿元。
可选标的冠石科技、清溢光电、路维光电
国内光掩膜版三巨头持续布局半导体掩膜版市场,冠石科技(45亿元市值)、清溢光电(65亿元市值)、路维光电(65亿元市值)合计约180亿元市值,全板块远期市值仍有100-200%以上空间。
路维光电中国半导体和面板光罩龙头,近期拟20亿元投资28nm-130nm半导体掩膜版,达产后有望实现15亿元收入和3亿元净利润。公司与国内芯片龙头客户积极合作,未来技术实力有望持续加强,重点关注。
风险提示以上观点主要来源于网络和机构交流,我们不对其真实性、有效性及据此操作产生的损益承担任何责任,仅供投资参考!
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逍遥齐物
光掩膜板行业简析
逻辑国产替代空间巨大
近期随着光刻机大集团新闻持续发酵,光刻机、光刻胶、光掩膜版产业链备受关注。光刻掩膜板(Photomask),又称光罩、光掩膜等,是芯片制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权息的载体,是光刻机使用过程中,芯片精度和质量的决定因素之一。
光掩膜版市值弹性巨大。中国半导体光掩膜版市场需求约100亿元,但路维和清溢合计仅2亿元收入,掩膜版国产替代空间巨大,国内130nm以下制程半导体掩膜版基本依赖于进口。按远期国产化率70%和20%净利率30x测算,中国半导体光罩企业合计市值有望约500亿元,叠加面板等其它领域需求,中国光罩企业合计市值有望达到600-700亿元。
可选标的冠石科技、清溢光电、路维光电
国内光掩膜版三巨头持续布局半导体掩膜版市场,冠石科技(45亿元市值)、清溢光电(65亿元市值)、路维光电(65亿元市值)合计约180亿元市值,全板块远期市值仍有100-200%以上空间。
路维光电中国半导体和面板光罩龙头,近期拟20亿元投资28nm-130nm半导体掩膜版,达产后有望实现15亿元收入和3亿元净利润。公司与国内芯片龙头客户积极合作,未来技术实力有望持续加强,重点关注。
风险提示以上观点主要来源于网络和机构交流,我们不对其真实性、有效性及据此操作产生的损益承担任何责任,仅供投资参考!
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