【专利解密】奥来德改善OLED材料结构 有效减少杂质黑点产生

【嘉勤点评】奥来德发明的OLED显示材料，通过改变电子注入层的组合物，共同蒸镀材料作为电子注入层，并通过控制该层蒸镀比例及厚度，使驱动电压明显降低，从而提升发光效率，该方案在高温条件下也有着较好的表现，可以有效减少黑点等不良现象的产生。

集微网消息，有机发光二极管（OLED）显示面板是一种自发光显示面板，这种显示面板具有轻薄、高亮度、低功耗、宽视角、高响应速度以及使用温度范围宽泛等优点而越来越多地被应用于各种高性能显示领域中。

随着OLED材料的发展，满足OLED显示面板性能要求的有机材料偏向电子传输型，常温情况电子注入材料对寿命影响不明显，但高温情况电子注入相对于电子迁移来讲，速度较慢，因此造成电子在阴极侧存在积累，不仅使得电子材料易老化，也会造成OLED显示面板寿命变短。

目前的相关技术中，OLED顶发射器件结构技术上一般采用Liq或者Yb等单一材料作为电子注入材料，但采用Liq作为电子注入材料，器件工作时Li离子会存在迁移到阳极的现象，影响载流子注入，从而影响器件寿命。Yb作为电子注入材料，当蒸镀到掩膜板及挡板上的Yb材料达到一定厚度时会出现掉落的情况，同时工艺过程中会发生飞溅，影响腔室氛围。

为此，奥来德在2021年3月3日申请了一项名为“电子注入层用组合物、电子注入层、光电器件及显示装置”的发明专利（申请号202110237403.8），申请人为吉林奥来德光电材料股份有限公司。

根据该专利目前公开的相关资料，让我们一起来看看这项技术资料吧。

如上图，为该专利中发明的光电器件的结构示意图，其结构从上至下分别为光取出层10、阴极9、电子注入层8、电子传输层7、空穴阻挡层6、发光层5、电子阻挡层4、空穴传输层3、空穴注入层2和阳极1，其根据下述方法制备而得。

首先，在蒸镀前期需要进行处理将用于OLED装置玻璃基板（150nm）上的ITO/Ag/ITO薄膜（ITO厚度为14nm，Ag厚度为150nm）放在蒸馏水中清洗2次、超声波洗涤30分钟，再用蒸馏水反复清洗2次、超声波洗涤10分钟。超声波洗涤以后干燥，转移到等离子体清洗机里洗涤5分钟，放在真空烘箱以温度200℃进行烘干，得到带有阳极的基板后放在蒸镀机里进行蒸镀。

空穴注入材料采用化合物NPB与F4-TCNQ（掺杂比为973）引入真空气相沉积设备的小室中，然后对设备的腔室中的压力进行控制。通过控制加热源功率大小对蒸镀速率进行控制，从而保证两种材料以设定比例进行共同蒸镀，以在阳极上形成空穴注入层。

其次，通过真空蒸镀的方式在空穴注入层上蒸镀空穴传输材料DCDPA、使该材料在空穴注入层上形成具有120nm厚度的空穴传输层，并通过真空蒸镀的方式在空穴传输层上蒸镀化合物三苯胺，从而在空穴传输层上形成具有10nm厚度的电子阻挡层。

接着，将化合物mCP引入真空气相沉积设备的一个小室中作为主体，并将化合物FIrpic引入另一个小室中作为掺杂剂，主体材料和掺杂材料的掺杂重量比为964，在电子阻挡层上形成具有20nm厚度的发光层。

最后，通过在发光层上真空蒸镀TPBi作为空穴阻挡层，其中掺杂有质量比为1:1的真空蒸镀BCP和Liq，在电子注入层上真空蒸镀镁和银作为阴极，并对阴极进行覆盖及提高光取出，从而完成制备过程。

以上就是奥来德发明的OLED显示材料，该方案通过改变电子注入层的组合物，共同蒸镀Mg和LiF作为电子注入层，并通过控制该层蒸镀比例及厚度使器件的驱动电压明显降低，从而提升发光效率，该方案在高温条件下也有着较好的表现，可以有效改善显示效果，减少黑点等不良现象的产生。