光大证券给予拓荆科技增持评级

光大证券股份有限公司刘凯近期对拓荆科技进行研究并发布了研究报告《投资价值分析报告中国半导体CVD设备龙头国产化持续放量》，本报告对拓荆科技给出增持评级，当前股价为272.88元。

　　拓荆科技(688072)　　拓荆科技是目前国内唯一产业化应用集成电路PECVD和SACVD设备的厂商，也是国内领先的ALD设备厂商。公司是国内半导体CVD设备龙头，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，是国内唯一产业化应用集成电路PECVD和SACVD设备的厂商，也是国内领先的ALD设备厂商，已配适180-14nm逻辑芯片、19/17nmDRAM及64/128层FLASH制造工艺需求，广泛应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线，打破了国际厂商对国内市场的垄断。2021年公司实现营业收入7.58亿元，其中PECVD/SACVD/ALD设备收入分别为6.75/0.41/0.29亿元，营收占比分别为89.1%/5.4%/3.8%。　　全球半导体薄膜沉积市场年复合增长率为14.6%，国产化率有待提升。全球半导体薄膜沉积市场2020年市场空间约为172亿美元，预计到2025年将达到340亿美元，年复合增长率为14.6%，随着产线的逐渐升级，晶圆制造的复杂度和工序量都大大提升，在实现相同芯片制造产能的情况下，晶圆厂对薄膜沉积设备的需求量和性能也将相应增加。在CVD设备市场中，应用材料、泛林半导体和TEL全球占比约30%、21%和19%，三大厂商占据了全球约70%的市场份额；在ALD设备市场中，TEL和ASM分别占据了31%和29%的市场份额，剩下40%的份额由其他厂商占据。根据亚化咨询统计及预测，薄膜设备2020年的国产化率在10-15%之间，预计2025年在20-25%之间，国产化率有待提升。　　公司PECVD领先优势明显，ALD和SACVD将成为新的增长点。薄膜沉积设备作为晶圆制造的三大主设备之一，2020年其投资规模占晶圆制造设备总投资的25%，仅次于刻蚀设备，其中PECVD、ALD和SACVD在薄膜沉积设备市场份额占比分别为33%、11%和小于6%，PECVD设备占比最大。公司主要产品为PECVD、ALD和SACVD，卡位优势明显。其中PECVD设备在28nm及以上制程逻辑产线基本可以实现各类薄膜工艺的覆盖，14nm先进制程节点在验证中；PEALD设备可以覆盖逻辑芯片55-14nmSADP、STI工艺及存储领域，已实现产业化应用，ThermalALD主要应用于28nm以下制程逻辑芯片，正在研发中；SACVD设备可以覆盖12英寸40/28nm以及8英寸90nm以上的逻辑芯片制造工艺需求。未来ALD和SACVD将逐步进入放量期，有望成为公司新的增长点。　　盈利预测、估值与评级公司PECVD卡位优势明显，ALD和SACVD将逐步放量，我们预测公司2022-2024年的归母净利润为2.57/4.28/6.08亿元，PE值为117x/70x/49x，我们看好公司未来的成长空间，首次覆盖给予“增持”评级。　　风险提示国产化进度不及预期，晶圆厂扩张不及预期，次新股股价调整风险。

该股最近90天内共有21家机构给出评级，买入评级13家，增持评级7家，中性评级1家；过去90天内机构目标均价为299.67。根据近五年财报数据，证券之星估值分析工具显示，拓荆科技（688072）行业内竞争力的护城河优秀，盈利能力一般，营收成长性较差。财务可能有隐忧，须重点关注的财务指标包括应收账款/利润率、存货/营收率、经营现金流/利润率。该股好公司指标0.5星，好价格指标0.5星，综合指标0.5星。（指标仅供参考，指标范围0 ~ 5星，最高5星）

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