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东吴证券股份有限公司周尔双,黄瑞连,鲍娴颖近期对拓荆科技进行研究并发布了研究报告《引领薄膜沉积设备进口替代,业绩持续高速增长》,本报告对拓荆科技给出买入评级,当前股价为154.0元。
拓荆科技(688072) 本土半导体薄膜沉积设备龙头,业绩持续快速增长 公司是本土半导体薄膜沉积设备龙头,产品覆盖PECVD、SACVD和ALD,其中PECVD和SACVD是国内唯一一家产业化应用企业,相关产品成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户,引领进口替代同时,业绩实现快速增长。1)收入端2021年公司实现营收7.58亿元,2018-2021年CAGR为121%,2021年PECVD收入6.75亿元,占当年营收比重达89.11%,为收入最大来源。2)利润端2018-2021年公司扣非销售净利率为-212.23%、-24.86%、-13.11%和-10.82%,虽尚未真正实现盈利,但扣非销售净利率持续改善;我们注意到2021-2022Q1公司毛利率分别为44.01%和47.44%,增幅明显,甚至略高于本土前道刻蚀龙头毛利率。我们认为规模效应下,期间费用率下降,公司盈利能力存在较大提升空间。截至2021年9月,公司在手订单超过15亿元,2022Q1末存货和合同负债分别达到12.94和7.80亿元,分别较2021Q3末增长32%和75%,充足的订单有望支撑公司业绩持续快速增长。 薄膜沉积设备是高价值量占比环节,公司产品竞争优势明显 全球晶圆产能东移,中国大陆成为全球晶圆扩产中心,根据集微咨询,中国大陆未来5年将新增25座12英寸晶圆厂,总规划月产能将超过160万片,可见中国大陆对晶圆设备的需求有望长期维持高位。1)薄膜沉积设备作为晶圆制造三大核心设备之一,在晶圆制造设备中价值量占比高达25%,仅次于刻蚀设备,其中PECVD和ALD在薄膜沉积设备中占比分别达到33%和11%。2)先进制程工艺使得薄膜沉积设备的需求存在量价齐升逻辑,我们预计2025年全球&本土半导体薄膜沉积设备市场规模将分别达到340和136亿美元,2021-2025年CAGR分别为16%和25%。3)全球半导体薄膜沉积设备仍由AMAT、LAM、TEL等海外龙头主导,公司在集成电路PECVD和SACVD领域先发优势明显,ALD同样是国内领先设备企业,有望充分受益于本土晶圆厂扩产浪潮。 PECVD仍有较大国产化提升空间,SACVD、ALD成新的增长点 公司在稳固PECVD市场竞争力的同时,SACVD&ALD也持续取得产业化突破,成长空间不断打开。1)PECVD公司核心产品,在国内市占率依然较低,2021年不到6%。公司PECVD已全面覆盖逻辑、DRAM存储、FLASH闪存各技术节点通用介质薄膜,并在14nm及10nm以下制程积极配合客户产业验证,随着客户验证顺利推进,有望延续高速增长;2)SACVD适用于45-10nm沟槽填充,先进制程下渗透率存在提升趋势,公司产品体系不断完善,2020年以来客户验证机台快速增加,有望进入放量阶段;3)ALD膜厚精准可控&台阶覆盖率极高,技术优势突出,公司率先实现PE-ALD产业化,同时布局Thermal-ALD,IPO募投项目将助力大规模产业化进程。 盈利预测与投资评级我们预计2022-2024年公司营业收入分别为12.64、18.61和25.78亿元,当前市值对应动态PS分别为15、10和8倍。公司PECVD稀缺性显著,叠加SACVD&ALD放量,成长性突出,首次覆盖,给予“买入”评级。 风险提示晶圆厂资本开支不及预期、Demo机台无法实现最终销售等。
该股最近90天内共有16家机构给出评级,买入评级11家,增持评级4家;过去90天内机构目标均价为142.52。证券之星估值分析工具显示,拓荆科技(688072)好公司评级为0星,好价格评级为1星,估值综合评级为0.5星。(评级范围1 ~ 5星,最高5星)
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工业母机概念逆势走高,光力科技目前主力资金净流入473.87万元
青蒿素概念逆势走高,浙江医药周五主力资金净流入3266.33万元
今天减速器概念大跌4.66%,智慧农业跌停
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东吴证券给予拓荆科技买入评级
东吴证券股份有限公司周尔双,黄瑞连,鲍娴颖近期对拓荆科技进行研究并发布了研究报告《引领薄膜沉积设备进口替代,业绩持续高速增长》,本报告对拓荆科技给出买入评级,当前股价为154.0元。
拓荆科技(688072) 本土半导体薄膜沉积设备龙头,业绩持续快速增长 公司是本土半导体薄膜沉积设备龙头,产品覆盖PECVD、SACVD和ALD,其中PECVD和SACVD是国内唯一一家产业化应用企业,相关产品成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户,引领进口替代同时,业绩实现快速增长。1)收入端2021年公司实现营收7.58亿元,2018-2021年CAGR为121%,2021年PECVD收入6.75亿元,占当年营收比重达89.11%,为收入最大来源。2)利润端2018-2021年公司扣非销售净利率为-212.23%、-24.86%、-13.11%和-10.82%,虽尚未真正实现盈利,但扣非销售净利率持续改善;我们注意到2021-2022Q1公司毛利率分别为44.01%和47.44%,增幅明显,甚至略高于本土前道刻蚀龙头毛利率。我们认为规模效应下,期间费用率下降,公司盈利能力存在较大提升空间。截至2021年9月,公司在手订单超过15亿元,2022Q1末存货和合同负债分别达到12.94和7.80亿元,分别较2021Q3末增长32%和75%,充足的订单有望支撑公司业绩持续快速增长。 薄膜沉积设备是高价值量占比环节,公司产品竞争优势明显 全球晶圆产能东移,中国大陆成为全球晶圆扩产中心,根据集微咨询,中国大陆未来5年将新增25座12英寸晶圆厂,总规划月产能将超过160万片,可见中国大陆对晶圆设备的需求有望长期维持高位。1)薄膜沉积设备作为晶圆制造三大核心设备之一,在晶圆制造设备中价值量占比高达25%,仅次于刻蚀设备,其中PECVD和ALD在薄膜沉积设备中占比分别达到33%和11%。2)先进制程工艺使得薄膜沉积设备的需求存在量价齐升逻辑,我们预计2025年全球&本土半导体薄膜沉积设备市场规模将分别达到340和136亿美元,2021-2025年CAGR分别为16%和25%。3)全球半导体薄膜沉积设备仍由AMAT、LAM、TEL等海外龙头主导,公司在集成电路PECVD和SACVD领域先发优势明显,ALD同样是国内领先设备企业,有望充分受益于本土晶圆厂扩产浪潮。 PECVD仍有较大国产化提升空间,SACVD、ALD成新的增长点 公司在稳固PECVD市场竞争力的同时,SACVD&ALD也持续取得产业化突破,成长空间不断打开。1)PECVD公司核心产品,在国内市占率依然较低,2021年不到6%。公司PECVD已全面覆盖逻辑、DRAM存储、FLASH闪存各技术节点通用介质薄膜,并在14nm及10nm以下制程积极配合客户产业验证,随着客户验证顺利推进,有望延续高速增长;2)SACVD适用于45-10nm沟槽填充,先进制程下渗透率存在提升趋势,公司产品体系不断完善,2020年以来客户验证机台快速增加,有望进入放量阶段;3)ALD膜厚精准可控&台阶覆盖率极高,技术优势突出,公司率先实现PE-ALD产业化,同时布局Thermal-ALD,IPO募投项目将助力大规模产业化进程。 盈利预测与投资评级我们预计2022-2024年公司营业收入分别为12.64、18.61和25.78亿元,当前市值对应动态PS分别为15、10和8倍。公司PECVD稀缺性显著,叠加SACVD&ALD放量,成长性突出,首次覆盖,给予“买入”评级。 风险提示晶圆厂资本开支不及预期、Demo机台无法实现最终销售等。
该股最近90天内共有16家机构给出评级,买入评级11家,增持评级4家;过去90天内机构目标均价为142.52。证券之星估值分析工具显示,拓荆科技(688072)好公司评级为0星,好价格评级为1星,估值综合评级为0.5星。(评级范围1 ~ 5星,最高5星)
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