顾炜琉
国产替代影响几何?
2021 年,全球半导体行业总销售额达 5500 亿美元。其中,作为全球最大、发展最快的芯片半导体销售市场,彭博数据显示,过去 4 个季度,每个季度增长最快的 20 家芯片产业公司中,平均有 19 家来自中国大陆。
在现代中美科技竞争背景下,“国产替代”已成为中国半导体产业发展的象征。
“中国半导体股背后的逻辑,一直是国产替代进口的设备和芯片,”杭州希言资产管理基金经理石军波接受媒体采访时表示,即使技术可能不那么先进,国内半导体企业依然在被美国迫使下发展,从而获得更大的市场份额。
光刻机被称作“半导体工业皇冠上的明珠”,与航空发动机并列,是人类工业难度极限。
而想要保证光刻机良好运转,每个环节的成功率都要高达 99.99%,这是工程学上的巨大挑战。
温宁克曾表示,如果想打破 ASML 等国外企业制定的技术规则和垄断优势,中国需要集体参与精密零部件的供应开发。他认为中国
目前不太可能独立掌握顶级光刻技术。对于国产光刻产业链,首先关注华为的投资布局。天眼查数据显示,继 2021 年 6 月,华为旗下的哈勃投资公司入股中科院微电子所控股、国内第一的 193nm ArF 准分子激光器光源系统企业“北京科益虹源”之后。
今年 4 月,华为哈勃再度投资光源相关产业,入股光电模块零部件公司“微源光子(深圳)科技”。
其次是企业的业绩。7 月 5 日,国内刻蚀设备(光刻下游,溶解光刻胶部分金属)厂商中微公司发布 2022 年中报预告,公司预计今年二季度营收 19.7 亿元,同比增长 47.1%。
其中新增订单下,营收同比增长 62% 至 30.6 亿元。中微公司董事长尹志尧透露,公司研发的等离子刻蚀设备已经进入客户 5nm 生产线。该公司预计上半年扣非归母净利润大增 630%。
最后是未来国产光刻行业的发展评估。方正证券发布研报称,光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,技术要求极高,在制造设备投资额中单项占比高达 23%。
而目前,全球前道光刻机被 ASML、尼康、佳能所垄断,当前实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战略意义。
“国产光刻机应从如下四个方面寻求突破,包括产业分工、科研投入、技术突破以及人才积累。”
方正证券在报告中称,对于国内光刻产业链,主要关注以下两部分
一是关注光刻机核心组件,包括负责整体集成的上海微电子、负责光源系统的科益虹源,负责物镜系统的国望光学,负责曝光光学系统的国科精密,负责双工作台的华卓精科,负责浸没系统的启尔机电等。
二是关注光刻配套设施发展,包括光刻胶,光刻气体,光掩模版,光刻机缺陷检测设备,涂胶显影设备等。
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答:中微半导体设备(上海)股份有限公详情>>
答:中微公司所属板块是 上游行业:详情>>
答:中微公司的概念股是:MSCI、中芯详情>>
答:中微公司的注册资金是:6.2亿元详情>>
答:中微公司公司 2024-03-31 财务报详情>>
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顾炜琉
芯片国产替代产业【转】
国产替代影响几何?
2021 年,全球半导体行业总销售额达 5500 亿美元。其中,作为全球最大、发展最快的芯片半导体销售市场,彭博数据显示,过去 4 个季度,每个季度增长最快的 20 家芯片产业公司中,平均有 19 家来自中国大陆。
在现代中美科技竞争背景下,“国产替代”已成为中国半导体产业发展的象征。
“中国半导体股背后的逻辑,一直是国产替代进口的设备和芯片,”杭州希言资产管理基金经理石军波接受媒体采访时表示,即使技术可能不那么先进,国内半导体企业依然在被美国迫使下发展,从而获得更大的市场份额。
光刻机被称作“半导体工业皇冠上的明珠”,与航空发动机并列,是人类工业难度极限。
而想要保证光刻机良好运转,每个环节的成功率都要高达 99.99%,这是工程学上的巨大挑战。
温宁克曾表示,如果想打破 ASML 等国外企业制定的技术规则和垄断优势,中国需要集体参与精密零部件的供应开发。他认为中国
目前不太可能独立掌握顶级光刻技术。对于国产光刻产业链,首先关注华为的投资布局。天眼查数据显示,继 2021 年 6 月,华为旗下的哈勃投资公司入股中科院微电子所控股、国内第一的 193nm ArF 准分子激光器光源系统企业“北京科益虹源”之后。
今年 4 月,华为哈勃再度投资光源相关产业,入股光电模块零部件公司“微源光子(深圳)科技”。
其次是企业的业绩。7 月 5 日,国内刻蚀设备(光刻下游,溶解光刻胶部分金属)厂商中微公司发布 2022 年中报预告,公司预计今年二季度营收 19.7 亿元,同比增长 47.1%。
其中新增订单下,营收同比增长 62% 至 30.6 亿元。中微公司董事长尹志尧透露,公司研发的等离子刻蚀设备已经进入客户 5nm 生产线。该公司预计上半年扣非归母净利润大增 630%。
最后是未来国产光刻行业的发展评估。方正证券发布研报称,光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,技术要求极高,在制造设备投资额中单项占比高达 23%。
而目前,全球前道光刻机被 ASML、尼康、佳能所垄断,当前实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战略意义。
“国产光刻机应从如下四个方面寻求突破,包括产业分工、科研投入、技术突破以及人才积累。”
方正证券在报告中称,对于国内光刻产业链,主要关注以下两部分
一是关注光刻机核心组件,包括负责整体集成的上海微电子、负责光源系统的科益虹源,负责物镜系统的国望光学,负责曝光光学系统的国科精密,负责双工作台的华卓精科,负责浸没系统的启尔机电等。
二是关注光刻配套设施发展,包括光刻胶,光刻气体,光掩模版,光刻机缺陷检测设备,涂胶显影设备等。
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