中微公司是科创板第一家破千亿；寻找半导体产业皇冠上的明珠

导读我们从新闻手入，捕获关键的知识，由入线，通过专业或行业新闻网站和期刊，找到相关产业链资讯，最后再反过来寻找相应喜欢或感兴趣的个股，并结合投资专业知识，寻找大概率的介入位置，避免风口浪尖，但也不怕风口浪尖。

【大国重器-高端光刻机，半导体产业皇冠上的明珠，史上全球最贵。】

【新闻一】

近日有一条新闻报道，荷兰阿斯麦（ASML）公司本想向中国企业出售一台价值1.5亿美元的EUV（极紫外光刻机），受到了美国的阻挠。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备——极紫外光刻机（EUV)的关注度大幅提升，在资本市场上更是吸引了大量交易者的目光，好像EUV成为了衡量中国半导体行业发展水平的标杆，没有EUV就无法实现半导体强国之梦一样。

【新闻二】

另外一条值得注意的消息是，据腾讯自选股APP显示，科创板产生第一家破1000亿市值的半导体公司—中微公司（688012），截止上周五收盘为止，总市值达到1048亿。我们需要仔细观察的是，自突破上市第一天的巨量最高之后，成交量一直没有迅速放大，说明筹码被锁定，主力惜售，主力控盘良好。

我们就从这两则新闻入手，由入线再到面，抓住新闻的热，然后找到其关联的线，再找到整个行业的面，这样基本上就可以对整体行业板块有个基本上的认识。由于我们每个人的专业不同，知识面不同，整合的物质流、息流和能量流不同，正如交易系统、交易策略和交易逻辑的建立一样，如何协同作战？时间和空间上如何有序而无规则化交易成为一大难。比如，我们要获取半导体行业相关的资讯，可以从国际半导体产业协会（SEMI）、中国半导体行业协会网站、中国电子网、微公众号芯思想等地方了解；如果要了解新能源汽车息，可以从中国汽车报、电池网等获得相关资讯。以专业的眼光世界，以另类的眼光自己。

现在就让我们一起关注半导体行业的IC（集成电路）制造——国产芯片关键工艺产品——光刻机、刻蚀机和光刻胶这条线。

【新技术光刻机是集成电路的最具关键性的基础设备之一，国产芯片替代，半导体行业能否弯道超车？】

作为息化时代的核心基石，集成电路的重要性提升到国家战略，《中国制造2025》提到，将EUV作为IC制造领域的发展重，并计划2030年实现EUV光刻机的国产化。由于光刻机技术是集成电路制造产业核心中的核心，其中EUV是最新一代光刻技术，是决定着我国集成电路制造行业最前沿和最尖端的关键设备。光刻机是集成电路制造中精密程度最复杂、难度最高、价格最昂贵的设备。

目前全球市场上只有三到四家厂商可以生产制造光刻机，分别是荷兰阿斯麦（ASML)、日本尼康（NIKON）和佳能（CONON）及中国的上海微电子（SMEE）。其中AMSL处于绝对垄断状态，极高端产品EUV（极紫外光刻机）是领头羊，台湾的台积电、韩国的三星及英特尔（INTEL)都是AMSL的大股东，所以他们的合作没有任何问题。由于极高端产品EUV（极紫外光刻机）只有AMSL一家可以生产，同时中国半导体企业进口EUV受到国外的限制，所以才会出现新闻一的报道。

EUV面向的是7nm以下节工艺，尤其是5nm节工艺的晶圆制造，2020年一则重磅消息，中芯国际已经开始代工华为旗下海思半导体公司14nm工艺的芯片，但距离EUV的技术水平太远。同时，我们也要到，成本高是EUV的致命弱，失去中国最大的半导体市场不一定被好。借此机会，中国的科创板为这些站在世界高端产品最前沿的企业融资上市和筹集资金创造了大好机遇，放眼未来，专心研究，相中国企业能够克服半导体行业中最难攻克的一根硬骨头，缩小与世界的差距，说不准还可以弯道超车。

科学技术是第一生产力，决定着经济发展的周期，技术的新陈代谢可以颠覆整个行业产业链，新开发或研究的技术设备可以缩短或淘汰旧的行业设备，从而重新占领市场份额，开拓整个世界市场。我们作为投资者、交易者或者投机者，不可能比专业领域的人认识更深，但我们可以尽量选择或关注“新能源、新材料、新技术”三大战略性新兴行业或板块，因为投资投的是未来，不是现在，现在的利润或利好都已经过去，未来该来的总会来。

至少，从目前市场反映的情绪来，受到国家政策的扶持，受到市场资金的青睐，企业自身也共同成立国家级实验室，团结进取，热情澎湃。

【中微公司光刻机是芯片制造的魂，刻蚀机是芯片制造的魄】

中微公司自主研制的5nm等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线，这到底为何？什么是刻蚀机？
中微公司的刻蚀机的确水平一流，但刻蚀只是芯片制造多个环节之一。
“光刻机”和“刻蚀机”的区别在哪里？

如果把在硅晶体上的施工比作木匠活的话，光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线，刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。

“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。

“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构。

在芯片制造领域，光刻机和刻蚀机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，刻蚀机是芯片制造的魄。

光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器，要达到5纳米曝光精度难比登天，ASML公司一家通吃高端光刻机；而刻蚀机没那么难，中微的竞争对手还有应用材料、泛林、东京电子等等，国外巨头体量优势明显。
中微公司的等离子刻蚀机确实厉害，刻蚀机精度已远超光刻机的曝光精度，在芯片制程上，刻蚀精度已不再是最大的难题，更难的是保证在大面积晶圆上的刻蚀一致性。
IC芯片从设计、制造到封装测试再到整机出厂，流程复杂。刻蚀只是制造环节的工序之一，还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等，都需要复杂的技术。在核心关键环节上，IC设计处在产业链最上游，其次是IC制造为中游产业，IC封装为下游产业。

【新材料光刻胶是电子产业的“生长激素”】

2019年11月11日，南大光电发布公告宣布全资子公司宁波南大光电材料有限公司（简称“南大光电”）获得补助金1,584.47万元。
公告显示，南大光电是科技部“02专项”之“先进光刻胶产品开发与产业化”课题牵头单位，该公司近日收到江苏省科学技术厅转拨的“2019年集成电路制造等重大专项经费”2,185.56万元。南大光电获得补助的项目课题名称是ArF光刻胶产品的开发与产业化。
南大光电被视作国产光刻胶希望之一，主要有MO源、电子特气、光刻胶三大业务板块。　

我们再以此前的新闻报道作为入手，理解光刻胶的意义。

电子化工材料（ECM)被称为电子产业的“生长激素”，处于电子产业链的最前端，没有高质量的电子化工材料就不可能制造出高性能的电子元器件。在半导体制造技术难度最高的材料非光刻胶莫属。随着北京科华、晶瑞股份为代表的国内企业已经实现了KrF光刻胶的突破，鲶鱼效应逐步显现，大量新增投产或在建的晶圆厂将有望随着下游客户导入而加速发展。

光刻胶可以说是技术壁垒最高的材料之一，研发难度极大，生产工艺复杂，研发和生产成本高，其配方也就成了最核心的技术。所以，光刻胶是半导体、LCD和PCB等行业中最关键、最核心的工艺材料之一，起着举足轻重的作用。按照下游应用可以把光刻胶分为半导体用光刻胶、LCD用光刻胶和PCB用光刻胶三种类型，难度逐步降低。难度越低国产替代率越快，难度越高替代率越慢，尤其是半导体领域，由于技术难度最高，国产替代率极低。虽然光刻工艺是芯片制造中最核心的工艺，但光刻胶的质量和性能是影响IC质量的关键因素。光刻机与光刻胶两者必须配套使用，保证工艺的一致性。

目前半导体光刻胶市场上，g线和i线光刻胶份额最大， ArF的增速最快。

总而言之，光刻机、刻蚀机和光刻胶三种材料设备，其技术壁垒难度分别是由大到小，含金量自然可以从资本市场中窥一斑而知全豹。所以才会创造出中微公司是科创板第一家超千亿市值的公司。

【个股参考】

综合以上所述，下面大概梳理出光刻机、刻蚀机和光刻胶三种大类的股票。

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