211204 石大胜华的湿电子化学品瞄准的是G5标准

上市企业在湿电子化学品公开能查到的达到G5标准的总共有三个

晶瑞电材有两个高纯硫酸和高纯双氧水

多氟多一个高纯氟化氢

格林达的显影液可以达到G4，大量使用在低端的平板显示LCD和OLED，在中国平板显示占45%的份额，不过半导体还没有进入，正在向G5的显影液攻关。

格林达的显影液原材料是从石大胜华购买，而且是购买石大胜华的工业级DMC，从格林达的经营数据可以查到。格林达使用的是自己的提纯技术，从工业级的DMC开始做显影液，现在只能达到G4的标准。

石大胜华进入到湿电子化学品，利用自己独特的提纯技术，瞄准的就是G5，不是G4，更不是G3、G2、G1。

晶瑞电材的提纯技术来源于石大胜华与三菱化工共有的专利，所以石大胜华的高纯双氧水一定是G5，而高纯氨水，高纯氟化氨和高纯氢氟酸，提纯技术路线相似，也一定是G5。

石大胜华的20000吨光刻胶辅材就是光刻显影液，瞄准的是G5标准。

目前南大光电已经攻克了ArF光刻胶，可以在90纳米以下至14纳米使用，中芯国际的新工艺可以用Arf光刻胶和DUV光刻机做到7纳米。

但90纳米以下的显影液基本全部进口，这石大胜华2万吨的显影液显然是填补这一个空白去的。

都是校企，一个南京大学，一个石油大学，南大光电和石大胜华，这两个化工巨头必须挑起湿电子化学品的历史责任。南大光电的在以下三个领域提纯技术世界第一

1、 MO源是世界第一，纯度绝大部分都是6个9以上。

2、 高纯砷烷、磷烷等特种气体均为集成电路制备中的主要支撑材料，纯度达到6N级别，就是6个9的意思，英特尔都要采购南大光电的电子特气。

3、 ALD / CVD前驱体系列产品，纯度大部分都超过9个9！

回头看看石大胜华的光刻胶辅材，光刻显影液，只能是G5的标准。

石大胜华进入湿电子化学品，这5万吨产能，全部产品一出生就是最高标准。

所以，可以非常确定的说，石大胜华的湿电子化学品全部瞄准的都是G5的规格，是带着填补国内空白的历史使命。

这5万吨只是先期产能，随着中国半导体规模不断扩大，一定会很快扩产。