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中国芯片的稀缺标底—必创科技清华大学走的光刻机路线

作者：哈切搭八
2023-09-22 14:28:48
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中国芯片的稀缺标底—必创科技

清华大学走的光刻机路线加速器带动的超大型基建型光工厂，国内已经在搞电子加速器一样的光源做光刻机光源，如果成功中国光刻机技术立刻进入2纳米以下，弯道超车西方技术。
核心是同步辐射光源！必创科技拥有自主芯片研发设计能力,能够对芯片生产工艺版图进行自主设计;在前道流片生产环节,必创科技掌握了光刻、双面光刻、深刻蚀DRIE、晶圆键合等核心工艺;同时,必创科技自主研发了开口封装技术,已经建成后道封装生产线。封装测试是保证MEMS芯片自身性能实现的重要方式,其成本约占到芯片生产成本的50%,与生产环节相比,封装测试环节水平同样决定公司在MEMS压力传感器芯片领域的竞争力。在MEMS模组生产环节,必创科技运用SMT工艺,对MEMS压力传感器芯片、号调理芯片及相关电子元器件进行装配。同时,必创科技通过温度补偿和数字补偿工艺,对MEMS芯片的温度、线性度、零点偏移度和灵敏度进行调节,以形成输出号精度高、线性度优良的模组产品。
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