光刻机再发酵 纳米压印概念

光刻机概念再度发酵，9月14日午间，苏大维格在投资者互动平台中对光刻机出货的描述，令公司股价瞬间20CM直线涨停。在股价涨停之时，投资者也大感疑惑，质疑公司上述“光刻机描述是否写错”。随后苏大维格做出澄清，表示公司出货并非如ASLM的EUV掩摸光刻机，而是激光直写光刻机。此举也引起监管关注，深交所15日早间立即对苏大维格下发关注函。但值得关注的是，苏大维格股价并没有停止上涨，15日一度冲高涨17%，最终报收涨5.68%，另一只光刻机概念龙头张江高科涨停，至此市场意识到光刻机概念再往深度发酵，纳米压印光刻概念横空出世。

苏大维格放量上攻

资料来源华创证券远航版

张江高科再度涨停

资料来源华创证券远航版

苏大维格“光刻机已发货”引发暴涨

9月14日，苏大维格在互动易回复光刻机相关问题时表示，“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”苏大维格股价迅速拉升，并实现20%涨停。

自苏大维格称已实现向国内龙头芯片企业的销售后，有投资者也追问“公司光刻设备对比全世界同行业处于什么阶段？未来有没有和国内同行合作研发制造光刻机计划？”

对此，苏大维格解释“在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩膜光刻机，如ASML的EUV设备，好比‘复印机’，把掩膜上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高；第二类是无掩膜光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比‘打印机’，可用于芯片/液晶掩膜、光模具及其他微结构的制备。”

关注函中，深交所也要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况，并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示相关风险。

在上述投资者关系平台回复中，苏大维格曾表示“目前，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入。”

纳米压印光刻概念横空出世

除了光刻机的销售息，苏大维格9月14日还提及“纳米压印”技术。在回复“纳米压印技术有没有替代EUV光刻机的可能性”时，苏大维格称“根据相关资讯，佳能等国际厂商拟试图通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产。此外，苏大维格也表示“纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小。”但收到监管函后，股价并未结束上涨，这意味着“纳米压印”光刻机概念成为苏大维格主要炒作逻辑。

什么是纳米压印技术？

纳米压印技术，即NanoimprintLithography(NIL)，是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。纳米压印的分辨率由所用印模板图形的大小决定，物理上没有光刻中的衍射限制，纳米压玉印技术可以实现纳米级线宽的图形。

紫外纳米压印光刻与光学光刻流程对比

资料来源IFIND、浙商证券

可以理解为，纳米压印技术造芯片就像盖章一样，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章（掩膜）上，再将印章盖在橡皮泥（压印胶）上，实现图形转移后，然后通过热或者UV光照的方法使转移的图形固化，以完成微纳加工的“雕刻”步骤。

纳米压印替代的是光刻环节，只有光刻的步骤被纳米压抑技术代替，其他的刻蚀、离子注入、薄膜沉积这些标准的芯片制造工艺是完全兼容的，能很好的接入现有产业，不用推翻重来。

纳米压印能否替代传统光刻？

全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，因此业界一直在研究替代方案。除了全力研发光刻机，纳米压印技术能不能制造芯片？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻。

佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备。佳能提供NIL产品线，东芝是他们的早期客户之一，应用于NAND闪存的生产。号称可以不使用EUV光刻机将芯片制程提升到5纳米水平。佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，计划2025年春季开始运营。这是佳能21年来建造的第一座光刻设备新工厂。纳米压印技术，就是被认为最有可能替代EUV的下一代光刻技术。

根据Gartner提出的新科技技术成熟度曲线，综合技术发展历程中的专利、论文、市场情报等数据，以年度和期望值维度，绘制了纳米压印技术产业化曲线。

纳米压印技术产业化曲线

资料来源IFIND、浙商证券

科技诞生触发期自1995年纳米压印技术提出后，引起学术界和产业界广泛关注和跟进，目前领先的技术和设备提供商大多在这一阶段进入。

期望膨胀期2003年，纳米压印技术首次纳入国际半导体蓝图（ITRS），技术的研究和期望进入高潮，这一时期，纳米压印相关设备被科研机构大量采购。

泡沫化低谷期受制于工艺不成熟，产业化不及预期。一批企业倒闭或被收购，标志性事件是2014年佳能收购MII。但是这段时间，纳米压印大面积、连续生产的相关技术被开发出来，在生产光子晶体LED芯片领域实现产业化。

稳步爬升光明期技术工艺逐步突破，在LED、微流控、MEMS、AR等领域实现产业化应用。国内企业也加大纳米压印技术的研发和应用布局。

产业化成熟期2021年后，随着工艺成熟和下游应用领域的突破发展，纳米压印技术将迎来大面积产业化。

弯道超车？纳米压印光刻或将是一条值得期待的路线

NIL同EUV光刻一样是次时代光刻技术的代表，随着其技术的日渐成熟已经具备导入集成电路制造的条件。日经新闻网称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠、佳能等公司则规划在2025年将该技术实用化。且不论能否替代当前主流的EUV光刻机，随着苏大维格“光刻机已发货”这个乌龙事件，纳米压印这个技术路线浮出水面被市场捕捉到并进行挖掘，其概念后续发酵值得我们投资者继续关注。

概念股梳理

苏大维格公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，向上海微电子提供光刻机用的定位光栅产品。已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。

东方钽业独供混合SMB-EUV光源核心部件铌超导腔。子公司东方超导是国内唯一具有超导腔生产及后续处理产业链的公司，产品铌超导腔作为粒子加速器的核心部件，被广泛应用于同步辐射光源、自由电子激光、散列中子源等大科学装置。

国光电气中标中科院高能物理研究所高能同步辐射光源(HEPS)高次模抑制器。

汇创达公司专注于导光结构微纳米热压印生产工艺的自主研发，通过自身在光学微结构设计、微纳米压印模具开发、自动化制造等核心环节多年积累的技术优势。

秋田微公司重点在研项目包括5G通讯用波长选择器(WSS)硅基液晶器件、自动驾驶激光雷达液晶光阀、纳米压印微结构及彩色电子纸器件、MiniLED显示模组、手势识别液晶显示模组等，已取得预期进展。

利和兴公司二代全自动纳米压印设备的研发项目处于研发测试阶段，尚待后续验证。

兆驰股份兆驰半导体通过自主设计变更和工艺方案优化，在行业内率先实现纳米压印技术的量产，进一步降低成本并缩短生产周期。

美迪凯用纳米压印开发了光学模组技术。

腾景科技公司在进行纳米压印衍射波导片产品的研发。

张江高科持股上海微电子10.779%的股份。

东方明珠间接持有上海微电子约2%股权。

福晶科技生产的KBBF晶体是光刻机的重要的上游原材料。

奥普光电研制的国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。

炬光科技光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器间接供货ASML，已布局纳米压印技术。

茂莱光学DUV光学透镜已供货上海微电子。

富创精密国产半导体设备零部件龙头，已进入ASML供应链体系，切入上海微电子等国产半导体设备厂。

蓝英装备控股子公司UCMAG为ASML提供精密清洗解决方案。

波长光电光刻机平行光源系统。

京华激光控股美国公司在光刻机微结构光学方面实力较强。

赛微电子光刻机厂商的MEMS透镜部件供应商；公司核心技术人员陈金通参与或主导的“紫外光固化微纳米压印材料的研究与开发”等被评为市级科技项目。

华懋科技国产光刻胶龙头，子公司徐州博康目前有70多款半导体光刻胶品种，是国内唯一规模化量产DUV单体的企业，已实现了完全国产化；

容大感光国内感光电子化学材料龙头。