中微公司

中微公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，其中公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线；公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。

其中，公司MOCVD取得了很好的份额和定位，投资者亦关注该业务未来的成长性。中微公司表示，MOCVD设备目前在照明、显示市场应用广泛。更重要的是Mini LED和Micro LED市场的拓展，相关市场的发展前景很大。MOCVD设备重要的应用还包括功率器件等。市场机构预测到2026年，全球每年需求超过800台MOCVD设备。中微公司在其中三个领域有开发相关产品，公司将继续开发照明、显示领域，包括Mini LED，Micro LED，以及功率器件等等领域的外延设备。公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场。未来市场空间非常广阔。                                                                                                            刻蚀设备方面，公司阐述，在逻辑集成电路制造环节，公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65纳米到5纳米等先进的芯片生产线上；同时，公司根据先进集成电路厂商的需求，已开发出小于5纳米刻蚀设备用于若干关键步骤的加工，并已获得行业领先客户的批量订单。公司目前正在配合客户需求，开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺，能够涵盖5纳米以下 更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备等。                                                                              此外，中微公司还对南昌新基地的建设情况予以了介绍:江西省南昌市高新区约14万平方米的研发生产基地已全面封顶，计划将于2022年内陆续投入生产。南昌产业化基地主要承担较为成熟产品的大规模量产及部分产品的研发升级工作。

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