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纬达光电申请液晶补偿膜制备方法专利，降低成本30-60%

作者：老不死乔丹
2024-03-02 10:55:40
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金融界2024年3月2日消息，据国家知识产权局公告，佛山纬达光电材料股份有限公司申请一项名为“一种低成本的液晶补偿膜制备方法及偏光片和应用“，公开号CN117631120A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本发明涉及液晶光学膜制备技术领域，公开一种低成本的液晶补偿膜制备方法及偏光片和应用，所述的液晶光学膜制备方法包括如下步骤在PET基膜或者TAC基膜上进行摩擦取向，摩擦取向后，通过非接触式的静电除尘装置进行除尘、除异物；在取向的基膜膜面上涂布液晶，液晶涂布时选择轻量化、跳动小的导辊，涂布液晶后经加热挥发溶剂、UV固化步骤形成液晶膜；液晶膜性能参数nx>ny=nz；Re=(nx‑ny)×d，Rth=[（nx+ny)/2‑nz]×d，Nz=(nx‑ny)/(nx‑ny)。本采用摩擦取向工艺替代光配向进行薄型化液晶补偿膜的制备，可以省去光配向使用的光配向设备以及光配向的液晶，从而达到降低成本的目的，成本降低30‑60%。

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