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2021年4月1日上市,688630 芯碁微装,合肥芯碁微电子装备股份有限公司目前市值101.11亿元,2022年三季度营业收入4.11亿元,净利润8778万元,研究经费6330万元,所属行业专用设备-其他专用设备,最赚钱业务产品销售。
主营产品: 公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务,产品功能涵盖微米到纳米的多领域光刻环节。
1)发明专利吸盘平面度调节装置和吸盘平面度调节装置的控制方法 申请号CN202211062192.X 申请日2022年8月31日 技术效果采用该吸盘平面度调节装置可以实现自动调节吸盘的平面度,提高工作效率。
2)发明专利激光直写曝光系统和激光直写曝光系统的曝光控制方法 申请号CN202210907147.3 申请日2022年7月29日 技术效果采用该激光直写曝光系统可以提高生产效率,且结构简单稳定。
3)发明专利无掩模光刻机 申请号CN202210892945.3 申请日2022年7月27日 技术效果根据光强传感器测量的空间光调制器的光强分布,控制器关闭空间光调制器上部分像素,以实现照明均匀性补偿,经控制器处理后,关闭空间光调制器上部分像素,从而达到照明均匀性补偿的效果。
4)实用专利基于FPGA的直写光刻图形填充装置和直写光刻机 申请号CN202221794516.4 申请日2022年7月11日 技术效果采用该基于FPGA的直写光刻图形填充装置可以实现一次性完成M位宽的曝光图形数据的填充,提高对曝光图形的填充效率。
5)发明专利卷对卷曝光机和用于卷对卷曝光机的控制方法 申请号CN202210808510.6 申请日2022年7月11日, 技术效果采用该卷对卷曝光机可以实现连续不断地对料带的双面同时进行曝光,提高曝光效率,解决曝光产品双面对位精度的问题。
6)发明专利用于太阳能电池电镀工艺中的曝光设备和边缘曝光的方法 申请号CN202210789653.7 申请日2022年7月6日 技术效果本发明的设备和方法,可以使得太阳能电池片的边缘侧面的曝光完全穿透感光材料,简单有效地实现电池片边缘绝缘。
7)发明专利无掩模版光刻设备和无掩模版光刻的方法 申请号CN202210788794.7 申请日2022年7月6日 技术效果本发明的设备和方法,无需采用掩模版来实现对太阳能电池片的曝光,可节约材料成本、储存成本以及生产更换物料时间,提高产品生产良率和效率。
8) 实用专利一种用于LDI直写曝光机的自动除尘装置及LDI直写曝光机 申请号CN202221485941.5 申请日2022年6月14日 技术效果本实用新型的自动除尘装置,能够在清扫灰尘的同时,利用抽真空产生负压,将清扫的灰尘吸入除尘真空密封盒,彻底将灰尘从曝光机中清除,此外,吹气组件的存在能够实现LDI直写曝光机在曝光过程中对PCB板进行自动除尘,因此包含该自动除尘装置的曝光机能够提高PCB板曝光的质量和良率。
9)实用专利曝光系统和曝光机 申请号CN202220988421.X 申请日2022年4月25日 技术效果通过在紫外曝光镜头的一侧设置相互倾斜的红外曝光镜头,使得曝光扫描过程中紫外光斑经过的地方首先瞬间被红外光斑加热,因此完成光固化所需的紫外光剂量降低,使扫描速度得以提升,最终缩短了曝光时间,提升效率。
10)发明专利吸附装置和具有其的光刻设备 申请号CN202210317502.1 申请日2022年3月29日 技术效果根据本发明实施例的吸附装置能够根据电路板的尺寸来调节吸附区域的尺寸,具有吸附稳定性高、噪音小且能耗低等优点。
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目前CPO概念在涨幅排行榜排名第二 新易盛、铭普光磁涨幅居前
目前覆铜板概念涨幅3.79%,胜宏科技、华正新材等股领涨
通用航空概念走势活跃大幅上涨4.18%,新晨科技、宗申动力等多股涨停
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【科创定位】688630 芯碁微装专利技术保护趋势
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2021年4月1日上市,688630 芯碁微装,合肥芯碁微电子装备股份有限公司目前市值101.11亿元,2022年三季度营业收入4.11亿元,净利润8778万元,研究经费6330万元,所属行业专用设备-其他专用设备,最赚钱业务产品销售。
主营产品: 公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务,产品功能涵盖微米到纳米的多领域光刻环节。
1)发明专利吸盘平面度调节装置和吸盘平面度调节装置的控制方法 申请号CN202211062192.X 申请日2022年8月31日 技术效果采用该吸盘平面度调节装置可以实现自动调节吸盘的平面度,提高工作效率。
2)发明专利激光直写曝光系统和激光直写曝光系统的曝光控制方法 申请号CN202210907147.3 申请日2022年7月29日 技术效果采用该激光直写曝光系统可以提高生产效率,且结构简单稳定。
3)发明专利无掩模光刻机 申请号CN202210892945.3 申请日2022年7月27日 技术效果根据光强传感器测量的空间光调制器的光强分布,控制器关闭空间光调制器上部分像素,以实现照明均匀性补偿,经控制器处理后,关闭空间光调制器上部分像素,从而达到照明均匀性补偿的效果。
4)实用专利基于FPGA的直写光刻图形填充装置和直写光刻机 申请号CN202221794516.4 申请日2022年7月11日 技术效果采用该基于FPGA的直写光刻图形填充装置可以实现一次性完成M位宽的曝光图形数据的填充,提高对曝光图形的填充效率。
5)发明专利卷对卷曝光机和用于卷对卷曝光机的控制方法 申请号CN202210808510.6 申请日2022年7月11日, 技术效果采用该卷对卷曝光机可以实现连续不断地对料带的双面同时进行曝光,提高曝光效率,解决曝光产品双面对位精度的问题。
6)发明专利用于太阳能电池电镀工艺中的曝光设备和边缘曝光的方法 申请号CN202210789653.7 申请日2022年7月6日 技术效果本发明的设备和方法,可以使得太阳能电池片的边缘侧面的曝光完全穿透感光材料,简单有效地实现电池片边缘绝缘。
7)发明专利无掩模版光刻设备和无掩模版光刻的方法 申请号CN202210788794.7 申请日2022年7月6日 技术效果本发明的设备和方法,无需采用掩模版来实现对太阳能电池片的曝光,可节约材料成本、储存成本以及生产更换物料时间,提高产品生产良率和效率。
8) 实用专利一种用于LDI直写曝光机的自动除尘装置及LDI直写曝光机 申请号CN202221485941.5 申请日2022年6月14日 技术效果本实用新型的自动除尘装置,能够在清扫灰尘的同时,利用抽真空产生负压,将清扫的灰尘吸入除尘真空密封盒,彻底将灰尘从曝光机中清除,此外,吹气组件的存在能够实现LDI直写曝光机在曝光过程中对PCB板进行自动除尘,因此包含该自动除尘装置的曝光机能够提高PCB板曝光的质量和良率。
9)实用专利曝光系统和曝光机 申请号CN202220988421.X 申请日2022年4月25日 技术效果通过在紫外曝光镜头的一侧设置相互倾斜的红外曝光镜头,使得曝光扫描过程中紫外光斑经过的地方首先瞬间被红外光斑加热,因此完成光固化所需的紫外光剂量降低,使扫描速度得以提升,最终缩短了曝光时间,提升效率。
10)发明专利吸附装置和具有其的光刻设备 申请号CN202210317502.1 申请日2022年3月29日 技术效果根据本发明实施例的吸附装置能够根据电路板的尺寸来调节吸附区域的尺寸,具有吸附稳定性高、噪音小且能耗低等优点。
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