一剑击长空
2022年8月17日上市,688401 路维光电,深圳市路维光电股份有限公司目前市值66.64亿元,2022年三季度营业收入4.91亿元,净利润7621万元,研究经费2208万元,所属行业半导体-半导体材料,最赚钱业务石英掩膜版。
主营产品: 公司自成立至今,一直致力于各类掩膜版的研发、生产和销售,产品主要用于平板显示、半导体、触控和电路板等行业,是下游微电子制造过程中转移图形的基准和蓝本。
【科创板科创定位】找余行事务所。【科创定位】找余行事务所。
1)实用专利掩膜版及曝光机 申请号CN202220580987.9 申请日2022年3月17日 技术效果能够改善刻蚀层的附着效果,提高掩膜版的使用寿命。
2)实用专利放置治具 申请号CN202122905664.0 申请日2021年11月23日 技术效果本实用新型的放置治具能够让板状的物料下端放在底座的限位部上,底座上的限位部对板状的物料进行固定,同时连接底座的支撑件能够抵持板状的物料上端,如此,板状的物料能够倾斜放置在治具上,方便人力对其进行操作,同时减少人工夹持板状的物料的危险。
3)发明专利光罩内部清洁方法及清洁装置 申请号CN202110494398.9 申请日2021年5月7日 技术效果可在不撬除光学膜的情况下,通过激光透过光学膜照射灰尘,将所述灰尘击碎至不影响所述光罩正常使用的尺寸,或者将所述灰尘移动至不影响所述光罩正常使用的位置,能够减少光罩的生产成本以及提高生产效率。
4)实用专利光罩清洗治具及光罩清洗装置 申请号CN202120919284.X 申请日2021年4月29日 技术效果所述固定部设于框体的内侧的边端,第一排水区形成于框体的内侧的角端,使光罩与框体的内侧的角端留有间隔,在该光罩清洗治具旋转甩干光罩上的水时,光罩与框体的内侧的角端之间不产生积水,提高光罩清洗效果。
5)实用专利曝光设备 申请号CN202120627977.1 申请日2021年3月26日, 技术效果本申请的曝光设备能够对掩膜版进行紫外线光照射,并且结构简单,易于实施,操作方便,能够快速取放掩膜版,生产效率高。
6)发明专利掩膜版脱膜去胶方法、制作方法及掩膜版 申请号CN202110326898.1 申请日2021年3月26日 技术效果本申请的掩膜版脱膜去胶方法,对掩膜版半成品进行曝光,使掩膜版半成品易于与显影液反应,摒弃了用H2SO4与H2O2混合进行脱膜的方法,不会对掩膜版造成损伤,延长了掩膜版的使用寿命,并且人员操作安全;不需使用自动清洗机进行费时费力的清洗,工序耗时短,生产效率高,操作方便。
7)发明专利掩模版清洗液及掩模版的清洗方法 申请号CN202110160957.2 申请日2021年2月5日 技术效果特定结构非离子表面活性剂的乳化能力与脂肪酸酯的稳定能力相互配合,将掩模版表面的雾状油污乳化成小颗粒后,配合清洗工具的擦拭,能够实现高效的清洁,并且不会对掩模版本身的功能造成损坏,不会破坏镀层的疏水疏油特性。
8) 实用专利转移治具 申请号CN202120289346.3 申请日2021年2月2日 技术效果通过夹持部上的夹持槽来夹持第一光罩,然后再通过搬运第一主体来实现对第一光罩的搬运目的,在第一光罩的搬运过程中无需人为接触,从而减少了许多痕迹,同时有效降低了废品率。
9)实用专利支撑治具及清洗设备 申请号CN202120177596.8 申请日2021年1月21日 技术效果本实用新型的支撑治具能够提升光罩的清洗效果。
10)发明专利支撑治具及清洗设备 申请号CN202110084194.8 申请日2021年1月21日 技术效果本发明的支撑治具能够提升光罩的清洗效果。
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【科创定位】688401 路维光电专利技术保护趋势
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2022年8月17日上市,688401 路维光电,深圳市路维光电股份有限公司目前市值66.64亿元,2022年三季度营业收入4.91亿元,净利润7621万元,研究经费2208万元,所属行业半导体-半导体材料,最赚钱业务石英掩膜版。
主营产品: 公司自成立至今,一直致力于各类掩膜版的研发、生产和销售,产品主要用于平板显示、半导体、触控和电路板等行业,是下游微电子制造过程中转移图形的基准和蓝本。
【科创板科创定位】找余行事务所。【科创定位】找余行事务所。
1)实用专利掩膜版及曝光机 申请号CN202220580987.9 申请日2022年3月17日 技术效果能够改善刻蚀层的附着效果,提高掩膜版的使用寿命。
2)实用专利放置治具 申请号CN202122905664.0 申请日2021年11月23日 技术效果本实用新型的放置治具能够让板状的物料下端放在底座的限位部上,底座上的限位部对板状的物料进行固定,同时连接底座的支撑件能够抵持板状的物料上端,如此,板状的物料能够倾斜放置在治具上,方便人力对其进行操作,同时减少人工夹持板状的物料的危险。
3)发明专利光罩内部清洁方法及清洁装置 申请号CN202110494398.9 申请日2021年5月7日 技术效果可在不撬除光学膜的情况下,通过激光透过光学膜照射灰尘,将所述灰尘击碎至不影响所述光罩正常使用的尺寸,或者将所述灰尘移动至不影响所述光罩正常使用的位置,能够减少光罩的生产成本以及提高生产效率。
4)实用专利光罩清洗治具及光罩清洗装置 申请号CN202120919284.X 申请日2021年4月29日 技术效果所述固定部设于框体的内侧的边端,第一排水区形成于框体的内侧的角端,使光罩与框体的内侧的角端留有间隔,在该光罩清洗治具旋转甩干光罩上的水时,光罩与框体的内侧的角端之间不产生积水,提高光罩清洗效果。
5)实用专利曝光设备 申请号CN202120627977.1 申请日2021年3月26日, 技术效果本申请的曝光设备能够对掩膜版进行紫外线光照射,并且结构简单,易于实施,操作方便,能够快速取放掩膜版,生产效率高。
6)发明专利掩膜版脱膜去胶方法、制作方法及掩膜版 申请号CN202110326898.1 申请日2021年3月26日 技术效果本申请的掩膜版脱膜去胶方法,对掩膜版半成品进行曝光,使掩膜版半成品易于与显影液反应,摒弃了用H2SO4与H2O2混合进行脱膜的方法,不会对掩膜版造成损伤,延长了掩膜版的使用寿命,并且人员操作安全;不需使用自动清洗机进行费时费力的清洗,工序耗时短,生产效率高,操作方便。
7)发明专利掩模版清洗液及掩模版的清洗方法 申请号CN202110160957.2 申请日2021年2月5日 技术效果特定结构非离子表面活性剂的乳化能力与脂肪酸酯的稳定能力相互配合,将掩模版表面的雾状油污乳化成小颗粒后,配合清洗工具的擦拭,能够实现高效的清洁,并且不会对掩模版本身的功能造成损坏,不会破坏镀层的疏水疏油特性。
8) 实用专利转移治具 申请号CN202120289346.3 申请日2021年2月2日 技术效果通过夹持部上的夹持槽来夹持第一光罩,然后再通过搬运第一主体来实现对第一光罩的搬运目的,在第一光罩的搬运过程中无需人为接触,从而减少了许多痕迹,同时有效降低了废品率。
9)实用专利支撑治具及清洗设备 申请号CN202120177596.8 申请日2021年1月21日 技术效果本实用新型的支撑治具能够提升光罩的清洗效果。
10)发明专利支撑治具及清洗设备 申请号CN202110084194.8 申请日2021年1月21日 技术效果本发明的支撑治具能够提升光罩的清洗效果。
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