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证券之星消息,根据企查查数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种光刻图形的制造方法与制造系统”,专利申请号为CN202011032944.9,授权日为2024年4月12日。
专利摘要本发明提出一种光刻图形的制造方法及制造系统,包括在基底上形成一光刻胶;对所述光刻胶进行曝光处理,以在所述光刻胶上形成第一区和第二区;采用显影液对所述光刻胶进行多次显影处理,以使所述显影液去除所述第一区或所述第二区,以形成所述光刻图形;其中,所述显影处理包括向所述光刻胶喷涂所述显影液;所述显影液与所述第一区或所述第二区反应。其中,向所述光刻胶喷涂所述显影液的过程至少包括第一喷涂过程,第二喷涂过程和第三喷涂过程;其中,在每次所述显影处理之后,还包括去除与所述第一区或所述第二区反应的所述显影液。本发明提出的光刻图形的制造方法可以避免光刻图形出现形貌缺陷。
今年以来晶合集成新获得专利授权93个,较去年同期增加了121.43%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元,同比增27.46%。
数据来源企查查
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晶合集成获得发明专利授权“一种光刻图形的制造方法与制造系统”
证券之星消息,根据企查查数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种光刻图形的制造方法与制造系统”,专利申请号为CN202011032944.9,授权日为2024年4月12日。
专利摘要本发明提出一种光刻图形的制造方法及制造系统,包括在基底上形成一光刻胶;对所述光刻胶进行曝光处理,以在所述光刻胶上形成第一区和第二区;采用显影液对所述光刻胶进行多次显影处理,以使所述显影液去除所述第一区或所述第二区,以形成所述光刻图形;其中,所述显影处理包括向所述光刻胶喷涂所述显影液;所述显影液与所述第一区或所述第二区反应。其中,向所述光刻胶喷涂所述显影液的过程至少包括第一喷涂过程,第二喷涂过程和第三喷涂过程;其中,在每次所述显影处理之后,还包括去除与所述第一区或所述第二区反应的所述显影液。本发明提出的光刻图形的制造方法可以避免光刻图形出现形貌缺陷。
今年以来晶合集成新获得专利授权93个,较去年同期增加了121.43%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元,同比增27.46%。
数据来源企查查
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