白云吞
证券之星消息,根据企查查数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“沟槽的制备方法”,专利申请号为CN202311658648.3,授权日为2024年4月5日。
专利摘要本发明提供了一种沟槽的制备方法,包括提供衬底,衬底上依次形成有氧化铝层、氧化硅层和图形化的光刻胶层;执行第一刻蚀工艺,以图形化的光刻胶层为掩模依次刻蚀氧化硅层和氧化铝层,以形成贯穿氧化硅层和氧化铝层的开口,且开口的侧壁具有若干凸起,且在形成开口时同步刻蚀去除图形化的光刻胶层;执行第一修复工艺去除开口的侧壁的凸起以使开口的侧壁平滑;执行第二刻蚀工艺,以氧化硅层和氧化铝层为掩模沿开口向下刻蚀衬底,以在衬底中形成沟槽,且在形成沟槽时同步刻蚀去除氧化硅层;执行第二修复工艺以使沟槽的侧壁垂直;以及,去除氧化铝层。本发明提高了沟槽的侧壁垂直度,利于获取特征尺寸较精准的沟槽。
今年以来晶合集成新获得专利授权77个,较去年同期增加了102.63%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元,同比增27.46%。
数据来源企查查
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白云吞
晶合集成获得发明专利授权“沟槽的制备方法”
证券之星消息,根据企查查数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“沟槽的制备方法”,专利申请号为CN202311658648.3,授权日为2024年4月5日。
专利摘要本发明提供了一种沟槽的制备方法,包括提供衬底,衬底上依次形成有氧化铝层、氧化硅层和图形化的光刻胶层;执行第一刻蚀工艺,以图形化的光刻胶层为掩模依次刻蚀氧化硅层和氧化铝层,以形成贯穿氧化硅层和氧化铝层的开口,且开口的侧壁具有若干凸起,且在形成开口时同步刻蚀去除图形化的光刻胶层;执行第一修复工艺去除开口的侧壁的凸起以使开口的侧壁平滑;执行第二刻蚀工艺,以氧化硅层和氧化铝层为掩模沿开口向下刻蚀衬底,以在衬底中形成沟槽,且在形成沟槽时同步刻蚀去除氧化硅层;执行第二修复工艺以使沟槽的侧壁垂直;以及,去除氧化铝层。本发明提高了沟槽的侧壁垂直度,利于获取特征尺寸较精准的沟槽。
今年以来晶合集成新获得专利授权77个,较去年同期增加了102.63%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了5.02亿元,同比增27.46%。
数据来源企查查
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