魔鬼藏在细节，日本这一刀对华有多厉害。3月31日，

魔鬼藏在细节，日本这一刀对华有多厉害。

3月31日，日本表示限制6类23种芯片制造设备的出口。虽并未直接将中国列为受限目标，但此举正配合美国的“芯片联盟战略”。
路边社称，该限制将于7月生效，涉及芯片的清洁、沉积、光刻、蚀刻等。而华为计划下半年量产14nm芯片，这真巧合吗？
日本断供后，囯产芯片将遇到什么困难？国产替代能否翻身？悲观者以为，国产芯片将退回90nm工艺。断供受限23种设备具体包括3项清洗设备、1 1项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻/曝光设备、3项刻蚀设备、1项测试设备。
这几乎涉及芯片制造全产业链。制造端被卡住，代工企业将直接停产，下游封测、应用端也会受到很大的影响，当然上游的设计、EDA也会受到波及。
没有日本的没备，我们可买其他囯家的吗？全球半导体设备市场，美国占41%、日本占32%、荷兰占19%，三者合计控制92% 。
目前看，美日荷限制在14nm以下先进制程，中国也主要在14nm以上成熟制程，影响不大。但是，7月后如果被控制程工艺扩大到28nm, 影响就很大。
中芯国际北京亦庄12nm耗资500亿因为设备问题，被迫延期投产。在北京上海天津深圳兴建的晶园厂计划2-3年投产，恐怕都将影响。
如果，我们连14nm芯片都要购买时，很可能天价被收割，英伟达H100已经卖到了24万就是例子。
目前国产替代如何？不太乐观。
光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备为半导体核心设备，囯产占比分别为24%、20%、20%。测试和封装设备占比分别为9%、6% 。
特别是关键设备光刻机，国产主供上海微电子工艺为90mm 替代率仅为1%-3% 。
ALD（原则层沉积设备），北方华创、拓荆科技，替代率4% 。
离子注入，万业企业、中科，替代率为3% 。
PVD（化学气象沉积），北方华创，替代率13%
涂胶显影设备，芯微源 替代率15% 。
CVD(化学气象沉积），拓荆科技、北方华创、盛美上海，替代率13% 。
刻蚀设备，中微公司、北方华创，替代率30% 。
据说，90mm芯片用于军工芯片、电源管理芯片、LCD驱动芯片、Wifi芯片、射频芯片等，整体占比55% 。理论上90nm光刻机两次曝光后可制造45nm芯片，3次曝光后可制造28nm芯片，但实际上，多次曝光良品率大幅下降，漏电率大幅提升。就算是ASML光刻机也仅能曝光两次。
全部纯国产设备仅能打造65 nm生产线，良品率还达不到要求。国产替代任重道远！
所幸的是媒体报道，国产28nm光刻机很快面世。此次日本断供，虽不及当年苏联断供。但是再次提醒我们任何时候都不要寄希望于他人，命运只能撑握在自己手中。


以上息来自科技铭程。

投资上，关注北方华创、中微电子等囯产替代厂。