拓荆科技(688072)国内半导体薄膜沉积设备龙

拓荆科技(688072) 国内半导体薄膜沉积设备龙头，硬核赛道稀缺标的

拓荆科技成立于 2010 年，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务， 主要产品包括等离子增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次 常态化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列。公司产品已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试，截至 2022 年 2 月，客户端累计流片量超过 5000 万片，引领半导体薄膜沉积设备国产化浪潮。 目前，我国已成为全球规模最大、增速最快的集成电路市场。2021 年以来国内晶圆厂加 速扩产，国产替代逐步升温，公司抓住市场机遇提升国内市场占有率。公司发布 2022 年业绩预增公告。预计 2022 年实现营收 16.5-17.2 亿元， 同比增长 117.69%-126.92%；预计实现归母净利润 3.3-4.0 亿元，同比增长 381.85%-484.06%；扣非归母净利润 1.6-1.9 亿元，同比扭亏为盈。 ❑ 业绩预告超预期，规模效应下盈利水平提升。2022 年公司营收中枢 16.85 亿元， 同比+122%，归母净利润中枢 3.65 亿元，同比+433%，扣非归母净利润中枢 1.75 亿元，同比扭亏为盈（2021 为-0.82 亿元）。从单季度来看，2022Q4 实现营收 6.58-7.28 亿元，同比增长 71%-90%，归母净利润 0.93-1.63 亿元，同比增长 779%-1444%，扣非归母净利润 0.48-0.78 亿元，同比扭亏为盈（2021Q4 为-0.59 亿元）。受益于下游行业需求增长，公司订单大幅增加，营收维持高增长，规模 效应下盈利水平提升，利润增速高于收入增速。 ❑ 股权激励落地，高业绩目标彰显公司发展心。公司 2022 年限制性股票激励计 划落地，拟一次性授予 280 万限制性股票，占股本总额 2.21%，授予价格 105 元/ 股。本次激励范围广泛，人数达 513 人。行权解锁条件较高，2022-2025 年营收 目标分别为 15.16/22.74/30.32/37.90 亿元，相较 2021 年营收增长 100%/200%/ 300%/400%，净利润目标分别为 2.53/4.04/5.48/6.85 亿元，相较 2021 年利润增长 270%/490%/700%/900%，营收利润高增速目标，充分体现公司对于未来市场拓 展及利润提升的心。 ❑ 新设全资子公司，布局高端半导体薄膜沉积设备。1 月 21 日公司公告，拟出资 5 亿元新设全资子公司拓荆科技（沈阳）有限公司，主要围绕公司现有主营业务开 展相关经营活动，从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、 销售与技术服 务。公司原总经理田晓明、原副总经理张孝勇辞去公司原职务，分别担任新设子 公司总经理及副总经理。 ❑ 半导体设备国产化进程提速，长期市场空间打开。美国对华半导体管制下，我 国半导体国产设备验证加速，预计国产化率持续提升。公司作为国内半导体 PECVD 龙头，充分受益于国产设备替代。公司持续拓展 PECVD、ALD、 SACVD 三大系列产品工艺应用领域，获得逻辑芯片、存储芯片等领域现有客户 重复订单和新客户订单。公司产品在晶圆制造产线的量产应用规模持续扩大，产 品高稳定性逐步验证，市场份额有望持续提升。