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【芯源微发布新一代浸没式高产能涂胶显影机 预计明年可实现批量订单】《科创板日报》17日讯,芯源微今日在公司成立二十周年之际举行新品发布会,宣布推出新一代浸没式高产能涂胶显影机FT(III)300。作为芯源微自主开发的第三代机型,浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前,该款机型已通过客户端验证,达到客户量产要求,成功打破国外垄断,填补国内空白。新品发布会以线上形式举行,记者了解到,该机型可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能,同时可匹配所有主流光刻机联机量产,通过选配覆盖国内28nm及以上所有工艺节点、覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺。芯源微董事长宗润福表示,该机型下游意向客户覆盖国内逻辑、存储、功率器件等多家国内知名厂商,预计明年可实现批量订单。
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答:芯源微上市时间为:2019-12-16详情>>
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【芯源微发布新一代浸没式高产能涂胶显影机预计明年可
【芯源微发布新一代浸没式高产能涂胶显影机 预计明年可实现批量订单】《科创板日报》17日讯,芯源微今日在公司成立二十周年之际举行新品发布会,宣布推出新一代浸没式高产能涂胶显影机FT(III)300。作为芯源微自主开发的第三代机型,浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前,该款机型已通过客户端验证,达到客户量产要求,成功打破国外垄断,填补国内空白。新品发布会以线上形式举行,记者了解到,该机型可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能,同时可匹配所有主流光刻机联机量产,通过选配覆盖国内28nm及以上所有工艺节点、覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺。芯源微董事长宗润福表示,该机型下游意向客户覆盖国内逻辑、存储、功率器件等多家国内知名厂商,预计明年可实现批量订单。
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