中微公司-688012-2021年年报点评刻蚀产品获突破性进展，沉积新品有序导入中

　3月30日，中微公司发布年报，公司2021年实现营业收入31.08亿元，同比增长36.7%；实现归母净利润10.11亿元，同比增长105.5%；实现扣非净利润3.24亿元，同比增长1291.1%。

  收入持续高增，盈利能力大幅提升。2021年，公司营业收入为31.08亿元，同比增长36.7%，主要得益于刻蚀设备收入的大幅增长。公司全年实现刻蚀设备收入20.04亿元，同比增长55.4%。而MOCVD设备方面，公司于2021年6月推出用于miniLED的新产品，但新签订单尚未形成规模化的收入，全年收入5.03亿元，同比增长1.5%。公司全年新签订单41.3亿元，同比增长90.5%，合同负债13.72亿元，同比增长131.8%。

  盈利端，公司全年利润率提升强势。毛利率同比提升6 pct至43.4%，主要由于MOCVD设备毛利率同比提升15 pct至33.77%，以及刻蚀收入占比提升，刻蚀设备毛利率44.3%，与去年同期维持一致。得益于此，公司全年扣非净利润达3.24亿元，同比增长1291.1%，扣非净利率达10.4%。同时，公司推出新一期股权激励计划，于3月29日向1104名员工一次性授予400万股公司股票，授予价格50元/股，覆盖公司全部职工人数的99.4%，与员工共享公司成长成果。

  CCP技术持续领先，ICP获得突破性进展。2021年公司保持了CCP刻蚀领域的领先优势，产品用于海外一线客户的5nm芯片产线和下一代试产产线，在部分关键客户处份额已经进入前两名。2021年出货量达到298腔，同比增长40%，用于3DNAND的订单稳步增长。

  与此同时，公司ICP刻蚀设备亦迎来突破性进展，通过诸多客户的工艺验证并取得重复订单，全年出货量134腔，同比增长超过235%。用于逻辑芯片5nm以下、DRAM芯片1X nm制程和3DNAND 128层以上的ICP设备亦在研发中。

  MOCVD新品订单饱满，多样薄膜沉积新品已在客户验证中。公司2021年6月推出的用于miniLED的MOCVD设备在半年内收到100腔以上批量订单，市场推广成果喜人。公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体MOCVD设备，GaN用MOCVD已经交付验证，SiC外延MOCVD设备研发已经启动。

  除刻蚀、MOCVD两大主业以外，公司产品线拓宽稳步推进。用于钨接触孔填充的LPCVD设备已经交付客户验证，用于GeSi外延的EPI设备已经进入样机设计、制造和调试阶段。此外公司还在筹划开发ALD设备和ALE等关键制程设备，产品矩阵有望持续拓宽。

  投资建议我们预计公司2022/23/24年营收分别为46.18/62.82/84.71亿元，对应现价PS分别为16/11/9倍，考虑到公司作为国内半导体设备龙头的市场地位，有望享受下游扩产和国产化红利，维持“推荐”评级。

  风险提示产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。