我们所知的光刻胶工艺的流程为涂胶—前烘—曝光—显影—坚膜—刻蚀—去胶通常,光刻胶只是用作构建图形步骤中的临时掩膜。因此,光刻工艺的最后一步通常是需要去除光刻胶,我们称之为去胶或者除胶。并且对去胶过程 详情
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