沪指弱势震荡整理，光刻胶概念领涨市场！（附光刻胶金股名单）

当前国家也成立了集成电路基金，集成电路国家大基金二期11月份开始投资，二期基金将对刻蚀机、薄膜设备、测试设备和清洗设备等领域企业保持高强度的持续支持。所以这也是我一直好科技龙头股以及好芯片未来的因。

国家政策推动自主可控、国内光刻胶技术逐渐突破、代工厂商分摊供应商风险将，持续推动内资晶圆代工厂商提升对国产光刻胶的接受程度，也给予国内优质的光刻胶厂商快速成长的机会。

在光刻胶领域，除了晶瑞股份，还有比较优质的企业。

今天光刻胶概念因为消息异动：

晶瑞股份：公司拥有年产5000吨G4级电子级氢氟酸产能；公司参股公司苏州瑞红是国内光刻胶龙头之一。子公司苏州瑞红承接国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”，率先在国内实现i线光刻胶的量产，已通过中芯国际上线测试。

胜利精密：公司正在将业务延伸拓展至光刻机产线整体解决方案，开展的光刻机产业化项目总投资额约8.59亿元。

智光电气：公司参股的粤芯半导体采购的荷兰ASML光刻机已交付。

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在晶圆的生产环节主要涉及7类半导体材料、化学品，每一类在半导体材料市场规模占比大致如下：1. 硅晶圆：33%；2. 特种气体：17%；3. 掩膜版：15%；4. 超净高纯试剂：13%；5. 抛光液和抛光垫：7%；6. 光阻材料（光刻胶）：7%；7. 溅射靶材：3%

光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺，耗时占IC制造50%左右，成本约占IC生产成本的1/3。光阻材料，也就是光刻胶是光刻过程最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。

光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基衬底上的有机化合物，是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一。

从需求端来，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中，半导体光刻胶的技术壁垒最高。

光刻胶一般由4种成分组成：树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。树脂是光刻胶中占比最大的组分，构成光刻胶的基本骨架，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、耐腐蚀性、热稳定性等。光活性物质是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。

目前全球光刻胶市场基本被日本和美国企业所垄断。光刻胶属于高技术壁垒材料，生产工艺复杂，纯度要求高，需要长期的技术积累。日本的JSR、东京应化、越化学及富士电子四家企业占据了全球70%以上的市场份额，处于市场垄断地位。

国内光刻胶生产商主要生产PCB光刻胶，面板光刻胶和半导体光刻胶生产规模相对较小。国内生产的光刻胶中，PCB光刻胶占比94%，LCD光刻胶和半导体光刻胶占比分别仅有3%和2%。

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其他相关股

江化微

主营产品为超净高纯试剂和光刻胶配套试剂，是国内湿电子化学品龙头企业。光刻胶配套试剂业务占比32%。目前光刻胶配套试剂年产能 1.26 万吨，扩建产能在2018 年逐步实现放量。公司客户包括中芯国际、长电科技、士兰微、华润微电子。

南大光电

参股北京科华微电子材料有限公司，进入集成电路材料光刻胶领域。248nm光刻胶新品的开发和客户认证工作取得了一定的进展。 193nm光刻胶及配套材料启动项目获得国家02专项正式立项，项目年限为2017年1月至2020年12月，正在投建高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料的开发及产业化项目。

容大感光

公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两种产品以及稀释剂等配套化学品，主要应用于平板显示、半导体及集成电路等领域。 集成电路用i线正性光刻胶项目开发的系列产品已经小批量产，在国内6寸集成电路芯片制造领域成功应用。

上海新阳

与合作方共同投资设立子公司开展 193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。计划总投资 2亿元人民币，上海新阳出资 8000 万元人民币，占目标公司股权的 80%；邓海博士技术团队出资 2000万元人民币，占目标公司股权的 20%。 邓海博士是当年intel开发铜互连90nm时，铝转铜，光刻机制程升级时，光刻胶研发成员之一，是全球最早涉足193nm光刻胶技术的人员。

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