涅槃110000
走在桥水的猫2019年01月21日 11:28
在上一篇半导体系列章中,提到了光刻胶,在相关公司中包含了江化微这家企业,它业务之一是光刻胶配套试剂,具体涉及剥离液、显影液等。
而剥离液、显影液属于功能性湿电子化学品,它与超净高纯试剂一起被称为湿电子化学品。下面要说的就是超净高纯试剂,其在半导体材料市场规模占比约为13%。
1、硅晶圆33%(已写)
2、特种气体17%
3、掩膜版15%
4、超净高纯试剂13%
5、抛光液和抛光垫7%
6、光阻材料7%(已写)
7、溅射靶材3%(已写)
1、必须要了解的基础知识
超净高纯试剂是控制颗粒和杂质含量的电子工业用化学试剂,按照性质可分为
① 酸类氢氟酸、硝酸、盐酸、磷酸、硫酸、乙酸
② 碱类氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵等
③ 有机溶剂类醇类、酮类、脂类、烃类、卤代烃类
④ 其它类双氧水等
主要应用市场主要有半导体、光伏太阳能电池、LED 和平板显示。
国际半导体设备与材料组织(SEMI)将超净高纯试剂制定了国际等级分类标准
按照 SEMI 等级的分类,我们先可以这么简单理解G1 等级属于低档产品,G2等级属于中低档产品, G3等级属于中高档产品,G4和G5等级属于高档产品。
上面提到,超净高纯试剂有四个应用领域,那应用领域不同,对微电子化学品的纯度要求也有所不同
① 半导体领域纯度要求较高,基本集中在SEMI G3、G4水平,我国的研发水平与国际尚存在较大差距。其中分立器件对超净高纯试剂纯度的要求要低于集成电路,基本集中在SEMI G2级水平,国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需求;
② 平板显示和LED领域: 等级要求为SEMI G2、G3水平,国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需求;
③ 光伏太阳能电池领域一般只需要SEMI G1级水平,是目前国产超净高纯试剂的主要市场。
这里很明显可以出,超净高纯试剂在半导体工艺中的要求最高。它主要用于芯片的清洗和腐蚀,不同线宽的集成电路工艺中必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗,且超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性有着十分重要的影响。
从标准我们可以出,随着集成电路工艺的提高,所需的试剂纯度也在不断提高。之前过“半导系列硅晶圆“ 章的朋友知道,0.09um(微米)=90nm(纳米),基本是用12寸晶圆生产。
12寸工艺中湿电子化学品技术等级需求一般在G3级以上。所以未来满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之一。
除了质量,12寸晶圆对湿电子化学品用量也大幅提升,12英寸晶圆面积是8英寸晶圆的两倍多,但是制备过程中使用的湿电子化学品的总量却达约240吨/万片,8英寸晶圆的湿电子化学品用量约为45万吨/万片。
也就是说随着晶圆尺寸的不断更新换代,对湿电子化学品的用量将不断增加。
对半导体行业有关注的应该知道,较多12寸晶圆生产线在国内投建,今年和明年是投产高峰期。同时,湿电子化学品对于产品纯度、洁净度有很高的要求,因此长途运输不利于产品品质,湿电子化学品的运输成本也较高。湿电子化学品生产往往围绕下游制造业布局,以减少运输距离,确保湿电子化学品的稳定供应。
湿电子化学品的逻辑简单明了,国内需求增加+就近则+政策支持。国内把新兴产业配套用电子化学品作为化学工业发展的战略重之一和新材料行业发展的重要组成部分,在政策上予以重支持。
2、市场及竞争情况
应用于半导体的超净高纯试剂,全球主要企业有德国巴斯夫,美国亚什兰化学、Arch化学,日本关东化学、三菱化学、京都化工、住友化学,台湾鑫林科技,韩国东友精细化工等,上述公司占全球市场份额的85%以上。
国内生产超净高纯试剂的企业中产品达到国际标准且具有一定生产量的企业有30多家,技术等级主要集中在G2级以下,8寸及12寸需求基本靠进品。仅有少数部分技术领先企业的部分产品达到了国际SEMI G4标准。
3、相关上市公司
① 晶瑞股份
主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池粘结剂四大类微电子化学品,应用于半导体、光伏太阳能电池、LED、平板显示和锂电池等五大新兴行业。
超净高纯试剂的核心产品超纯氢氟酸、盐酸、硝酸和氨水,纯度等级已达到SEMI G3、G4等级,拳头产品双氧水技术突破国际垄断,产品品质达到10ppt(相当于SEMI G5等级),达到全球第一梯队的技术品质,正在推动进口替代。
② 江化微
主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品。产品技术等级达到SEMI标准G2级,G3等级的硫酸、过氧化氢、异丙醇、低张力二氧化硅蚀刻液、钛蚀刻液进入国内6寸晶圆、8寸先进封装凸块芯片生产线,实现进口替代。
高纯湿电子化学品项目二期、镇江投资项目和四川投资项目建成投产之后,公司的将成为具备G4-G5级产品生产能力,将分别于2018年底和2019年底完工。
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涅槃110000
半导体系列篇七上游材料之湿化学品走在桥水的猫20
半导体系列篇七上游材料之湿化学品
走在桥水的猫2019年01月21日 11:28
在上一篇半导体系列章中,提到了光刻胶,在相关公司中包含了江化微这家企业,它业务之一是光刻胶配套试剂,具体涉及剥离液、显影液等。
而剥离液、显影液属于功能性湿电子化学品,它与超净高纯试剂一起被称为湿电子化学品。下面要说的就是超净高纯试剂,其在半导体材料市场规模占比约为13%。
1、硅晶圆33%(已写)
2、特种气体17%
3、掩膜版15%
4、超净高纯试剂13%
5、抛光液和抛光垫7%
6、光阻材料7%(已写)
7、溅射靶材3%(已写)
1、必须要了解的基础知识
超净高纯试剂是控制颗粒和杂质含量的电子工业用化学试剂,按照性质可分为
① 酸类氢氟酸、硝酸、盐酸、磷酸、硫酸、乙酸
② 碱类氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵等
③ 有机溶剂类醇类、酮类、脂类、烃类、卤代烃类
④ 其它类双氧水等
主要应用市场主要有半导体、光伏太阳能电池、LED 和平板显示。
国际半导体设备与材料组织(SEMI)将超净高纯试剂制定了国际等级分类标准
按照 SEMI 等级的分类,我们先可以这么简单理解G1 等级属于低档产品,G2等级属于中低档产品, G3等级属于中高档产品,G4和G5等级属于高档产品。
上面提到,超净高纯试剂有四个应用领域,那应用领域不同,对微电子化学品的纯度要求也有所不同
① 半导体领域纯度要求较高,基本集中在SEMI G3、G4水平,我国的研发水平与国际尚存在较大差距。其中分立器件对超净高纯试剂纯度的要求要低于集成电路,基本集中在SEMI G2级水平,国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需求;
② 平板显示和LED领域: 等级要求为SEMI G2、G3水平,国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需求;
③ 光伏太阳能电池领域一般只需要SEMI G1级水平,是目前国产超净高纯试剂的主要市场。
这里很明显可以出,超净高纯试剂在半导体工艺中的要求最高。它主要用于芯片的清洗和腐蚀,不同线宽的集成电路工艺中必须使用不同规格的超净高纯试剂进行蚀刻和清洗,且超净高纯试剂的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性有着十分重要的影响。
从标准我们可以出,随着集成电路工艺的提高,所需的试剂纯度也在不断提高。之前过“半导系列硅晶圆“ 章的朋友知道,0.09um(微米)=90nm(纳米),基本是用12寸晶圆生产。
12寸工艺中湿电子化学品技术等级需求一般在G3级以上。所以未来满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之一。
除了质量,12寸晶圆对湿电子化学品用量也大幅提升,12英寸晶圆面积是8英寸晶圆的两倍多,但是制备过程中使用的湿电子化学品的总量却达约240吨/万片,8英寸晶圆的湿电子化学品用量约为45万吨/万片。
也就是说随着晶圆尺寸的不断更新换代,对湿电子化学品的用量将不断增加。
对半导体行业有关注的应该知道,较多12寸晶圆生产线在国内投建,今年和明年是投产高峰期。同时,湿电子化学品对于产品纯度、洁净度有很高的要求,因此长途运输不利于产品品质,湿电子化学品的运输成本也较高。湿电子化学品生产往往围绕下游制造业布局,以减少运输距离,确保湿电子化学品的稳定供应。
湿电子化学品的逻辑简单明了,国内需求增加+就近则+政策支持。国内把新兴产业配套用电子化学品作为化学工业发展的战略重之一和新材料行业发展的重要组成部分,在政策上予以重支持。
2、市场及竞争情况
应用于半导体的超净高纯试剂,全球主要企业有德国巴斯夫,美国亚什兰化学、Arch化学,日本关东化学、三菱化学、京都化工、住友化学,台湾鑫林科技,韩国东友精细化工等,上述公司占全球市场份额的85%以上。
国内生产超净高纯试剂的企业中产品达到国际标准且具有一定生产量的企业有30多家,技术等级主要集中在G2级以下,8寸及12寸需求基本靠进品。仅有少数部分技术领先企业的部分产品达到了国际SEMI G4标准。
3、相关上市公司
① 晶瑞股份
主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池粘结剂四大类微电子化学品,应用于半导体、光伏太阳能电池、LED、平板显示和锂电池等五大新兴行业。
超净高纯试剂的核心产品超纯氢氟酸、盐酸、硝酸和氨水,纯度等级已达到SEMI G3、G4等级,拳头产品双氧水技术突破国际垄断,产品品质达到10ppt(相当于SEMI G5等级),达到全球第一梯队的技术品质,正在推动进口替代。
② 江化微
主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品。产品技术等级达到SEMI标准G2级,G3等级的硫酸、过氧化氢、异丙醇、低张力二氧化硅蚀刻液、钛蚀刻液进入国内6寸晶圆、8寸先进封装凸块芯片生产线,实现进口替代。
高纯湿电子化学品项目二期、镇江投资项目和四川投资项目建成投产之后,公司的将成为具备G4-G5级产品生产能力,将分别于2018年底和2019年底完工。
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