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info832170”提问

  • 作者:无招无股
  • 2021-08-31 15:16:34
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info832170” 提问请问董秘 低压化学气相沉积LPCVD等产品设备的用途?现在是否已量产?
公司官方回答您好!低压化学气相沉积(LPCVD) 设备是指在加热和低压环境下,利用气态原料在固体衬底表面发生化学反应,反应产物在衬底表面沉积形成薄膜的设备。LPCVD设备是在常压化学气相沉积(APCVD)的基础上,为了提高薄膜质量,改善膜厚和电阻率等特性参数的分布均匀性,以及提高生产效率而发展起来的,其主要特征是在低压热场环境下,工艺气体在圆片衬底表面发生化学反应,反应产物在衬底表面沉积形成薄膜。LPCVD设备在优质薄膜的制备方面具有优势,可用于制备氧化硅、氮化硅、多晶硅、碳化硅、氨化镓和石墨烯等薄膜。 公司控股子公司基于TOPCon技术开发出的低压化学气相沉积LPCVD设备已经量产。

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