光刻机量子通激光武器龙头股华工科技！

中美大博弈人工智能时代最高科技及技术工艺是芯片，芯片是人工智能时代的大脑思维神经。而芯片最核心2大壁垒是光刻机和光刻胶。建仓我国光刻机龙头股000988 华工科技 ！《国产光刻机最新突破，荷兰ASML开始慌了，中国已达到顶级水平》目前我们中国虽然没能够超越世界光刻机最顶级的荷兰ASML的7nm的水平，但是我们中国（武汉光电国家研究中心甘棕松团队已经研发出9nm尺寸的光刻机，并正加速努力奋进很快就将达到赶超荷兰ASML的7nm的世界第一梯队水平）已经赶超了日本和德国的9nm光刻机水平等次成为世界光刻机的世界第二等次。

武汉光电国家研究中心是华中科技大学的光电实验室

我国科学家另辟蹊径造出9纳米光刻试验样机从武汉光电国家研究中心获悉，该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。光刻机是集成电路生产制造过程中的关键设备，主流深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻机主要由荷兰ASML公司垄断生产，属于国内集成电路制造业的“卡脖子”技术。（科技日报）

据科技日报报道，武汉光电国家研究中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。据悉，甘棕松团队利用的是光刻胶材料对不同波长光束能够产生不同的光化学反应，让自主研发的光刻胶在第一个波长的激光光束下产生固化，在第二个波长的激光光束下破坏固化。第二束光被调制为空心光（中心光强为0），并利用第二曙光与第一束光形成的重合光斑，作用于光刻胶。这样只有第二束光空心部分的光刻胶最终被固化，从而远场突破衍射极限。 该理其实早在2013年就被甘棕松团队验证了，但却一直面临从理验证样机到可商用化的工程样机的开发困难。 据科技日报报道，甘棕松团队克服了材料、软件、零部件国产化三大难题。开发了多类光刻胶、实现了样机系统关键零部件国产化，实现了微纳三维器件结构设计和制造软件一体化。甘棕松说，我们打破了三维微纳光制造的国外技术垄断，在这个领域，从材料、软件到光机电零部件，我们都将不再受制于人。双光束超衍射极限光刻系统目前主要应用于微纳器件的三维光制造，未来随着进一步提升设备性能，在解决制造速度等关键问题后，该技术将有望应用于集成电路制造。 由于一些国家和地区起步早，目前一些关键设备和技术都。这属于科技上的重大技术突破， 华工科技 威武！剩下的就交给市场去反应了！

但是有华为和华中科技大学这样的朴实努力的企业和高校已经足矣，华为的麒麟智能芯片已经可以满足自足自给，而华中科技大学的甘棕松教授已经用跟ASML公司完全不同的技术路线，首次在世界范围内实现了单线9纳米线宽的超分辨光刻，而且成本只是动辄1亿美元的主流光刻机的几分之一。

激光武器 量子通讯 光刻机＝伟大公司000988 华工科技 的未来前景无可估量！